本文由 上海昊量光電設備有限公司 整理匯編

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• 實時高分辨率的THZ成像的應用

  講述了一種實時太赫茲成像方法，使用一個商用光纖耦合光電導電天線作為太赫茲源和一個未冷卻的微測輻射熱計相機進行檢測。利用我們的RIGI太赫茲相機，做了對應的測試[詳細]

  2024-12-20 14:17

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  2014-08-21 00:00

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  極紫外（EUV）應用亮點●● //1｜新的臺式光源使 10-100 納米級的應用變?yōu)楝F(xiàn)實 //2｜極紫外線應用包括計量學、納米級成像和電子光譜學 //3｜極紫外線系統(tǒng)通常采用反射光學系統(tǒng)因為折射系統(tǒng)的光吸收率高 //4｜表面粗糙度至關(guān)重要因為較短波長處的散射通常更高 極紫外線 (EUV) 輻射包括在 X 射線和深紫外線 (DUV) 光譜區(qū)域之間約 10nm 至 100nm 的波長帶。隨著極紫外線領域（包括光刻技術(shù)、納米級成像和光譜學等）中對于許多應用的需求日趨緊迫，Z jin 均已著手開發(fā)緊湊型極紫外線光源。這一努力為幾種極紫外線光源帶來了商業(yè)可用性. 幾乎所有材料都能夠 完 quan 吸收極紫外線輻射，因此光學元件幾乎都是反射，而不是透射的。由于波長很短，因此對極紫外線光學元件表面的質(zhì)量要求比可見光元件的要求更高。雖然由于其苛刻的要求，生產(chǎn)極紫外線光學元件并非易事，但因極紫外線輻射在高分辨率成像、光譜學和材料加工等方面的優(yōu)勢，仍然值得為此付出努力.[詳細]

  2022-03-11 09:29

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  2015-06-30 00:00

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