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  12315646 2018-01-08 00:00:00

  濺射靶材是通過不同的工藝條件制備的圓餅狀，方形，管型靶材，用于磁控濺射鍍膜的材料。 根據材質不同，工藝不同等又可以細分好多種類。 常見靶材分類如下： 常規(guī)金屬靶材 鎂Mg、錳Mn、鐵Fe、鈷Co、鎳Ni、銅Cu、鋅Zn、鉛Pd、錫Sn、鋁Al 小金屬靶材 銦In、鍺Ge、鎵Ga、銻Sb、鉍Bi、鎘Cd 難熔金屬靶材 鈦Ti、鋯Zr、鉿Hf、釩V、鈮Nb、鉭Ta、鉻Cr、鉬Mo、鎢W、錸Re 貴金屬靶材 金Au、銀Ag、鈀Pd、鉑Pt、銥Ir、釕Ru、銠Rh、鋨Os 半金屬靶材 碳C、硼B(yǎng)、碲Te、硒Se 稀土金屬靶材 釓Gd、釤Sm、鏑Dy、鈰Ce、釔Y、鑭La、鐿Yb、鉺Er、鋱Tb、鈥Ho、銩Tm、釹Nd、鐠Pr、镥Lu、銪Eu、鈧Sc 陶瓷靶材 氧化鋅鋁AZO、氧化銦錫ITO、氧化鋅ZnO、氮化鋁AlN、氮化鈦TiN、氮化硼B(yǎng)N、鈦酸鋇BaTiO3、鈦酸鉍BiTiO3、碳化硅SiC、鈦酸鍶SrTiO3、碳化鈦TiC、碳化鎢WC、鈮酸鋰LiNbO3 合金靶材 金錫合金AuSn、金鍺鎳合金AuGeNi、鋅鋁合金ZnAl、鋁銅合金AlCu、鈷鐵硼合金CoFeB、鐵錳合金FeMn、銥錳合金IrMn、鋯鈦合金ZrTi、鎳鉻合金NiCr、銅銦鎵合金CuInGa、銅鋅錫硫合金CZTS

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