采用全介質(zhì)硬膜鍍膜的技術(shù)和介質(zhì)干涉的原理，在凸顯窄帶濾光片特性的基礎(chǔ)上，光學(xué)性能與基片厚度無關(guān)，生產(chǎn)的窄帶濾光片更便于內(nèi)置儀器成像系統(tǒng)里面。使之光學(xué)性能得以提升和有效應(yīng)用，采用特殊的光學(xué)材料基底，解決傳統(tǒng)意義上吸收型合成玻璃易發(fā)霧及光學(xué)性能不穩(wěn)定等問題，產(chǎn)品依據(jù)客戶的指標(biāo)需求予以生產(chǎn)制作。

帶通濾光片

基本參數(shù)

常規(guī)參數(shù)簡述

工藝方式

IAD多層介質(zhì)硬膜

峰值透過率

70%~90%（根據(jù)客戶需求）

半峰值帶寬

30nm~100nm

截止波段

200nm~1100nm (根據(jù)客戶需求)

截止深度

T<0.01%,T<0.1%,T<0.5%(根據(jù)客戶需求)

產(chǎn)品材質(zhì)

一級光學(xué)玻璃（K9，BK7，B270，D263T，石英玻璃, 有色玻璃, 浮法玻璃 等）

產(chǎn)品尺寸方形

Ф4mm,Ф10mm,Ф12mm,Ф15mm,Ф20mm, Ф25mm, Ф30mm, Ф50mm

產(chǎn)品尺寸圓形

2*2mm,4*4mm,6.5*6.5mm,8*8mm,10*10mm,12*12mm, 25*25mm,70*70mm

產(chǎn)品厚度

根據(jù)客戶需求有0.35mm,0.6mm,0.8mm,1.1mm,2.0mm,3.0mm,4.0mm

通光孔徑

鍍膜覆蓋面大于95%有效面積

表面光潔度

國標(biāo)三級，美軍標(biāo)40-20（劃傷/麻點）

環(huán)境測試

MIL-STD-810F



說明：寬截止帶，采用多層硬膜經(jīng)離子輔助沉積納米材料高真空蒸發(fā)而成，膜層致密性好,成像清晰度高，厚度薄。



應(yīng)用領(lǐng)域：高清數(shù)碼相機，熒光分析儀, 有線電視升級設(shè)備，無線傳輸設(shè)備，手機條碼掃描，紅外電子白板，紅外攝像頭，紅外觸摸屏，虹膜識別，紅外醫(yī)療儀器，紅外油墨識別系統(tǒng)。CMOS芯片封裝，手持紅外激光測距儀，紅光觸摸屏, 光學(xué)儀器，醫(yī)療健康設(shè)備及檢測儀器。