火炬煙囪廣泛應(yīng)用于工業(yè)領(lǐng)域，尤其是化工、石油和鋼鐵行業(yè)，以通過燃燒安全地處理多余氣體。

這些多余氣體可能是不需要的廢氣，或者是為了防止工廠設(shè)備意外超壓而釋放的易燃?xì)怏w。簡單地將這些未經(jīng)處理的碳?xì)浠衔锱欧诺娇諝庵袝?huì)造成環(huán)境危害。

燃燒這些氣體產(chǎn)生的危害較小—例如，如果燃燒甲烷以產(chǎn)生二氧化碳和蒸汽，其危害要比釋放甲烷小得多。環(huán)境法規(guī)要求密切監(jiān)控火炬煙囪，以防止污染物（尤其是未燃燒的碳?xì)浠衔铮┻M(jìn)入到大氣中。

為什么監(jiān)控火炬煙囪很重要？

根據(jù)實(shí)際和監(jiān)管要求，需要監(jiān)控火炬煙囪是否存在火焰，并確保進(jìn)行了適當(dāng)燃燒。此外，監(jiān)控指示燈以確保其持續(xù)運(yùn)行也很重要。如果火炬煙囪因任何原因停止燃燒，必須盡早通知工廠操作員以便他們能夠重新點(diǎn)燃火焰并防止工廠停運(yùn)。

? 安全性

逃逸到大氣中的污染物可能對工廠人員的健康產(chǎn)生危害，且可能損壞機(jī)器。未燃燒的污染物也可能會(huì)積聚，并引發(fā)爆炸。

? 法規(guī)

為了防止有害排放物釋放到大氣中，環(huán)境監(jiān)管機(jī)構(gòu)要求始終監(jiān)控?zé)焽璧幕鹧婊蛑甘緹簟?/p>

? 指示燈

監(jiān)控指示燈是火炬煙囪控制系統(tǒng)的一個(gè)關(guān)鍵部分，但可能具有挑戰(zhàn)性。當(dāng)引燃的火焰直徑為30cm(11.8in)且火焰趨向于變小時(shí)，必須在距離火焰至少300m(984ft)的范圍內(nèi)進(jìn)行遠(yuǎn)程監(jiān)控。

監(jiān)控方法

為確保點(diǎn)火，可采用四種主要方法來監(jiān)控指示燈或火炬煙囪。

?  熱電偶

? 紫外線傳感器

? CCTV

? 紅外熱成像儀

火炬煙囪監(jiān)控問題

許多問題使得火炬煙囪監(jiān)控并不那么簡單。

狀況

火炬煙囪所在位置非常熱，并且通常具有腐蝕性。這使得很難進(jìn)行近距離接觸測量。這也使得測量設(shè)備的維護(hù)和更換非常危險(xiǎn)。

天氣

監(jiān)控器通常重 點(diǎn)監(jiān)控火炬煙囪的狹窄、明顯區(qū)域。如果風(fēng)力將火焰推離該區(qū)域，則會(huì)產(chǎn)生一個(gè)錯(cuò)誤讀數(shù)。

火焰可見度

有時(shí)，火炬煙囪燒盡的氣體會(huì)在不產(chǎn)生任何顏色的情況下燃燒。這樣就會(huì)產(chǎn)生通過視覺方法無法檢測到的透明火焰，并且錯(cuò)誤地將其視為火炬煙囪火焰已經(jīng)熄滅的指示。

成像儀視野(FOV)

由于火炬煙囪火焰暴露于環(huán)境中，因此會(huì)受到天氣的影響。這意味著可能被風(fēng)吹離其位置，因此非接觸式測量設(shè)備可能就看不到。

火炬煙囪監(jiān)控成像儀的寬視野對此問題提供了解決方案。該成像儀可定制6°的水平視野(HFOV)，以在火炬煙囪周圍達(dá)到良好的覆蓋，并安全地監(jiān)控火炬和引燃火焰的存在。

此外，先進(jìn)的IMAGEPro熱成像軟件可使操作員設(shè)置定制的感興趣區(qū)域(ROI)和報(bào)警閥值水平，以全天候監(jiān)控火炬和引燃火焰的狀態(tài)。這意味著即便受天氣影響火焰位置發(fā)生變化，也能繼續(xù)監(jiān)控火焰，為每個(gè)區(qū)域提供高低溫報(bào)警。

熱成像

紅外 (IR) 熱成像提供了監(jiān)控火炬煙囪的準(zhǔn)確和可靠方法。IR 攝像機(jī)如 AMETEK Land 的火炬煙囪監(jiān)控成像儀可以從任何距離生成任何目標(biāo)的高分辨率熱圖像。這實(shí)現(xiàn)了以安全的距離監(jiān)控火焰，從而確保攝像機(jī)不會(huì)因煙囪條件而受到損壞。這也使得維護(hù)更加安全和容易。

溫度測量的重要性

由于廢氣成分會(huì)在不同的溫度下燃燒，因此確保火炬煙囪不會(huì)降至有效溫度以下對于保證氣體的完全燃燒至關(guān)重要。

由于廢氣成分會(huì)在不同的溫度下燃燒，因此確?；鹁鏌焽璨粫?huì)降至有效溫度以下對于保證氣體的完全燃燒至關(guān)重要。

更復(fù)雜的是，這些溫度并不準(zhǔn)確，而是會(huì)受到其他條件，如壓力和燃燒氣體混合物的影響。因此，保持高火焰溫度極其重要。

但是，大多數(shù)火炬煙囪系統(tǒng)依靠注入蒸汽（即，將空氣引入到火焰中）來提高火焰溫度。監(jiān)控火焰的溫度上限可確保火焰不會(huì)“過熱”，從而控制效率。這降低了蒸汽生產(chǎn)的燃料成本，并大量節(jié)省成本。

泰克為許多不同應(yīng)用和用途提供示波器，受到廣大客戶的青睞，今天安泰測試為大家推薦一款功能全面，性能出眾，高性價(jià)比的全能小金剛泰克示波器——DPO/MSO2000B系列。

泰克示波器DPO/MSO2000B系列是同類產(chǎn)品中功能Z強(qiáng)大的示波器，以入門級價(jià)格提供高級調(diào)試功能。通道數(shù)多達(dá) 20 條，您只需一臺(tái)設(shè)備即可分析模擬和數(shù)字信號。再結(jié)合自動(dòng)串行和并行總線分析，以及創(chuàng)新的 Wave Inspector? 控件，您可以獲得加速調(diào)試所需的工具。

一、主要功能及特點(diǎn)：

二、泰克MSO/DPO2000B對比某品牌同系列產(chǎn)品串行觸發(fā)和解碼：

泰克MSO/DPO2000B系列

1、總線顯示—為構(gòu)成總線的各個(gè)信號提供更高級的綜合視圖

2、總線解碼—解碼總線上的每個(gè)數(shù)據(jù)包，顯示十六進(jìn)制、二進(jìn)制或ASCⅡ值

3、串行觸發(fā)—觸發(fā)數(shù)據(jù)包內(nèi)容

4、事件表—以表格方式觀察捕獲到的數(shù)據(jù)包

5、搜索—Wave Inspector在數(shù)據(jù)包內(nèi)容中自動(dòng)搜索并標(biāo)記用戶自定義事件

某品牌同系列產(chǎn)品

1、沒有提供串行總線觸發(fā)或解碼

2、沒有提供串行搜索功能

3、沒有提供事件表

三、泰克示波器DPO/MSO2000B系列主要指標(biāo)及參考價(jià)：

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簡介

       回收與再利用水能夠提高運(yùn)營效率、節(jié)約成本，但目前企業(yè)和城市只是偶爾實(shí)施水的再利用。氣候變化、城市化加劇、人口增長等因素要求發(fā)展水的再利用技術(shù)、發(fā)掘更多更安全的可用水源。為此，監(jiān)管機(jī)構(gòu)致力于提高批量水處理的可靠性、制定充分的分析標(biāo)準(zhǔn)來確保安全運(yùn)營。有機(jī)物監(jiān)測就是滿足高水質(zhì)要求、保障公眾健康、保證污染物去除的Z優(yōu)處理效率的重要部分。

挑戰(zhàn)

       間接飲水用再利用（IPR，Indirect Potable Reuse）事業(yè)發(fā)展迅猛，各種項(xiàng)目遍布美國和世界各地。但水資源的日益短缺迫使研究和監(jiān)管機(jī)構(gòu)制定直接飲用水再利用（DPR，Direct Potable Reuse）的規(guī)則框架。在回收水時(shí)，水處理廠將污水處理和飲用水處理結(jié)合起來，設(shè)置多道安全屏障，以保障公眾健康。這些工作包括：

       ? 降低生物需氧量（BOD） 

       ? 控制養(yǎng)分

       ? 去除病菌/病毒

       ? 確保正確的消毒

       ? 控制味道/氣味

       ? 消除微量有機(jī)污染物

       正確的消毒要求在殺滅活性病菌/病毒和產(chǎn)生致癌消毒副產(chǎn)物（DBP，Disinfection Byproduct）之間取得合理平衡。致癌消毒副產(chǎn)物產(chǎn)生于消毒劑和天然有機(jī)物（NOM，Natural Organic Matter）的反應(yīng)。為了進(jìn)行監(jiān)測和平衡，處理廠必須更好地了解各個(gè)回收階段的進(jìn)、出水水質(zhì)和工藝水水質(zhì)。總有機(jī)碳（TOC）分析是確定水質(zhì)的可靠方法。同其它標(biāo)準(zhǔn)（詳見表 1）相比，TOC 測量具有諸多優(yōu)點(diǎn)。TOC 包括 NOM、味道和氣味化合物、微生物和細(xì)菌、微量有機(jī)污染物、有機(jī)工業(yè)廢水等。

表 1：TOC 與其他可替代參數(shù)的比較

解決方案

       TOC 監(jiān)測可以改善污水處理工藝，提高目標(biāo)污染物的去除效率 。 TOC 監(jiān)測的優(yōu)勢在于 ：

       ? 控制污水處理工藝

       ? 根據(jù)實(shí)際數(shù)據(jù)作出決策

       ? 維護(hù)系統(tǒng)的整體健康

       ? 使出水水質(zhì)達(dá)到要求

       在設(shè)計(jì)水再利用處理系統(tǒng)時(shí)，關(guān)鍵在于找出關(guān)鍵控制點(diǎn)（CCP，Critical Control Point）和質(zhì)量控制點(diǎn)

（QCP，Quality Control Point），才能監(jiān)視系統(tǒng)性能、確保工藝水質(zhì)。除了監(jiān)測水源變化和Z終出水水質(zhì)之外，表 2 還列出了得益于有機(jī)物監(jiān)測的水處理工藝應(yīng)用實(shí)例。

表 2：有機(jī)物監(jiān)測解決方案

實(shí)例

       加州地下水回灌的回收水量（RWC，Recycled Water Contribution）由 TOC 量來決定，加州用TOC 量作為替代參數(shù)，表征未被規(guī)定的有機(jī)污染物的量。美國其他州也將 TOC 標(biāo)準(zhǔn)，作為回灌水法規(guī)標(biāo)準(zhǔn)，如表 3 所列。

表 3：各州的回灌與回收水的 TOC 水平

http://www.reno.gov/home/showdocument?id=30769

       回收水處理廠以 TOC 監(jiān)測為分析手段，用于改進(jìn)工藝控制、滿足補(bǔ)充水規(guī)則、改善處理工藝，如表 4所列。

表 4：回收處理和 TOC 監(jiān)測實(shí)例

       BAC-Biological Activated Carbon，生物活性炭過濾；GACGranulated Activated Carbon, 顆?；钚蕴浚籊MF-Granular Media Filtration，顆粒介質(zhì)過濾；MF-Microfiltration，微過濾；O3-Ozone, 臭氧；RO-Reverse Osmosis，反滲透；UF-Ultrafiltration，超濾；UV AOP-Ultraviolet Disinfection 

Advanced Oxidation，紫外線消毒高級氧化

       在為回灌地下水提供可靠的高品質(zhì)再生水方面，以及在防止海水浸入地下水方面，奧蘭治縣水（OCWD）是ling先者。從二級污水到 MF、RO、UV高級氧化，OCWD 的處理工藝生產(chǎn)了滿足或超過再生水標(biāo)準(zhǔn)以及州、聯(lián)邦飲用水標(biāo)準(zhǔn)的高質(zhì)水。OCWD 采用 TOC 分析來測試膜完整性、監(jiān)測去除效率、防止膜污染。對MF、UF、RO進(jìn)行不當(dāng)?shù)念A(yù)處理，都可能導(dǎo)致高昂的能源成本和昂貴的清潔費(fèi)用，并可能被迫更換膜。了解有關(guān)膜過濾前后的 TOC 濃度，有助于幫助優(yōu)化有機(jī)物去除效率，以及監(jiān)控入廠水質(zhì)的變化。

總結(jié)

       監(jiān)測 TOC，能使操作人員根據(jù)實(shí)際數(shù)據(jù)作出實(shí)時(shí)決策以優(yōu)化工藝，還能使處理廠監(jiān)控整個(gè)處理系統(tǒng)的功效，并達(dá)到出水質(zhì)量目標(biāo)。對再生水的日益增長的需求，以及新興的污水處理技術(shù)，推動(dòng)著直接飲用水再利用（DPR）的架構(gòu)發(fā)展。該架構(gòu)將依賴于TOC 分析等可靠的實(shí)時(shí)監(jiān)控，以保障公眾健康、確保GX運(yùn)行。

簡介 

       對于核電廠、燃?xì)廨啓C(jī)發(fā)電廠、燃煤發(fā)電廠、地?zé)岚l(fā)電廠、生物質(zhì)燃燒發(fā)電廠來說，超純水是發(fā)電系統(tǒng)的重要組成部分。發(fā)電用水通常來自于回收水、地表水、地下水等天然水源，用完后會(huì)被現(xiàn)場再利用或排放到環(huán)境中去。在提高整體發(fā)電效率、滿足排放要求、為現(xiàn)場回收水創(chuàng)造更多用 途方面，水處理發(fā)揮著關(guān)鍵作用。好的監(jiān)測工具不僅能夠幫助操作人員控制水處理、保護(hù)昂貴設(shè)備、避免意外停機(jī)，還能用來優(yōu)化水處理過程以節(jié)省開支、提高生產(chǎn)效率、防止污染物腐蝕鍋爐和氣輪機(jī)。 

       總有機(jī)碳（Total Organic Carbon，TOC）是造成腐蝕的罪魁禍?zhǔn)?，TOC 監(jiān)測法能夠有效監(jiān)控有機(jī)物污染1。人們發(fā)現(xiàn)的有機(jī)污染物的種類越來越多， TOC 是所有有機(jī)化合物的總稱，TOC 監(jiān)測法在分別量化有機(jī)化合物方面提供了快速、簡單的解決方法。測量有機(jī)物濃度的變化，能夠幫助識(shí)別系 統(tǒng)工藝的違規(guī)之處。監(jiān)測控制點(diǎn)有助于查找和排除污染源。 

       源水中的有機(jī)化合物經(jīng)過處理，在鍋爐中氧化成 腐蝕性酸。在水的回流側(cè)，蒸汽冷凝后被循環(huán)使 用。但冷卻過程（在打開或關(guān)閉時(shí)）可能會(huì)將冷卻劑或污染物從外部環(huán)境泄漏到工藝蒸汽中。表 1 是可能的有機(jī)污染源的列表。

表 1. 可能的有機(jī)污染源的列表

       例如，人們很難用傳統(tǒng)處理方法去除源水中的多糖，而電導(dǎo)率或 UV 254 傳感器也很難檢測到多糖。 在鍋爐或氣輪機(jī)中，多糖會(huì)在高溫高壓下分解成 具有腐蝕性的甲酸和乙酸，進(jìn)而酸化蒸汽，造成 腐蝕，并在鍋爐中留下沉積物。維護(hù)和修理鍋爐 時(shí)，工廠不得不停機(jī)減產(chǎn)。為了防止鍋爐受到損 壞，有些鍋爐保險(xiǎn)公司和監(jiān)管機(jī)構(gòu)要求工廠滿足 很低的 TOC 限值，低至 200 ppb（VGB）或 100  ppb（EPRI）。多糖也同超濾（Ultrafiltration， UF）和反滲透（Reverse Osmosis，RO）污染有 關(guān)。只有準(zhǔn)確監(jiān)測和去除有機(jī)化合物，才能有效 地保護(hù)設(shè)備。

       總有機(jī)物包括離子形式和非離子形式的化合物， 以及芳香族和非芳香族化合物。在監(jiān)測總有機(jī)物 濃度方面，TOC 監(jiān)測法具有可靠、精確等優(yōu)點(diǎn)。 圖 1 顯示了關(guān)鍵監(jiān)測點(diǎn)，以查找泄漏或潛在污染 處。表 2 是 TOC 分析法舉例。

圖 1. 需要監(jiān)測的關(guān)鍵區(qū)域

表 2. TOC 分析法舉例

現(xiàn)場再利用，推動(dòng)零液體排放（Zero  Liquid Discharge，ZLD）

       隨著排放標(biāo)準(zhǔn)越來越嚴(yán)格，以及污水處理成本不 斷提高，工廠不得不減少用水量和排水量。這就 增加了零液體排放（ZLD）系統(tǒng)監(jiān)測和自動(dòng)化的市 場需求。在系統(tǒng)前端冷卻和循環(huán)利用蒸汽，可以 節(jié)約用水、提高工作效率。 TOC 分析法能夠盡早 檢測到乙二醇等冷卻液是否泄漏到工藝水流中， 從而幫助操作人員采取措施以防止系統(tǒng)停機(jī)或永 久性的設(shè)備損壞。 TOC 分析法能夠提供準(zhǔn)確數(shù)據(jù)， 來幫助操作人員決定是否重新使用或者舍棄回收的水流。 

結(jié)論 

      TOC 分析法可以測量和控制發(fā)電用水中的化學(xué)物 質(zhì)，極大降低有機(jī)物污染。通過有效監(jiān)測和處理 進(jìn)水，工廠可以將腐蝕性離子濃度降到很低的水 平。源水中的有機(jī)物含量和種類總是變化，因此 只有監(jiān)測水源，才能有效達(dá)到監(jiān)測目的、保護(hù)昂 貴設(shè)備不被損壞。還有一些有機(jī)物會(huì)污染膜和樹 脂床。盡可能地減少有機(jī)污染物，有助于節(jié)約成 本、提GX率。新型的高溫高壓鍋爐通常要求 TOC 限值低至 100 ppb，內(nèi)部控制限值低至 10  ppb。補(bǔ)給水或回收水必須經(jīng)過適當(dāng)處理，才能達(dá) 到上述要求和滿足更嚴(yán)格的排放標(biāo)準(zhǔn)。有機(jī)物監(jiān) 測法能夠檢測到泄漏、微生物生長、處理失效、 有機(jī)物污染。減少此類問題能夠幫助工廠降低生 產(chǎn)成本、提高發(fā)電效率。

涂布 / 上光

由于具有諸如耐劃、耐磨和耐化學(xué)腐蝕這樣卓越的性能，而且還具有包括熱敏底材在內(nèi)的各種材料供選擇，所以 UV 反應(yīng)涂布適用于各種要求苛刻的應(yīng)用，如各種薄膜、運(yùn)輸車材料、印刷表面和三維物體。

印刷

Dr. H?nle AG 能為印刷過程提供多種多樣定制的 UV / LED / IR / 熱風(fēng)干燥機(jī)解決方案。

作為系統(tǒng)供應(yīng)商，Honle 能夠提供包含了所有關(guān)鍵元件的高度集成產(chǎn)品并且專門提供整套解決方案，例如平張印刷和膠印、噴墨打印、柔印、移印或絲網(wǎng)印刷。

3D 打印

三維物體打印是一種特殊的打印過程。尤其是使用了 UV 噴墨打印后，可完成獨(dú)特的高質(zhì)量產(chǎn)品。

在這一過程中，由于局部表面是不規(guī)則的，所以需要較高的 UV 能量，而且必須將用于固化的 UV 能力均勻地分布在物體表面。

常用的 3D 打印過程包括：噴墨打印、絲網(wǎng)印刷和移印。

3D coating

由于在 UV 固化過程中進(jìn)行了高度交聯(lián)，所以該涂布過程具有特別高的機(jī)械性和耐化學(xué)性，適用于三維物體，例如保護(hù)涂層或表面上光。

三維元件常用的涂布過程包括：浸漬涂布、流涂、噴涂、刮刀涂布、輥涂。

UVC 殺菌

氣體放電燈能發(fā)出相對比例較高的短波 UV 照射 (UVC)，因此它是理想的殺菌設(shè)備。由于細(xì)菌的 DNA 遭到了破壞，所以能夠有效地預(yù)防細(xì)菌傳播。從而顯著地延長了食品的保質(zhì)期。

該設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域主要集中于乳制品加工和飲料行業(yè)。

熒光

紫外技術(shù)在質(zhì)保方面起著重要的作用。在窄波段 UVA 照射的幫助下，可以清晰地呈現(xiàn)出膠粘劑、油脂或油中的熒光顆粒。通常使用傳統(tǒng) UV 紫外濾光片或高強(qiáng)度的 UV LED 燈來執(zhí)行這一操作。

借助 UV LED 點(diǎn)光源和照相機(jī)模塊對生產(chǎn)線進(jìn)行點(diǎn)對點(diǎn)抽檢，可有序地控制質(zhì)保過程。

大面積 UV 和 UV LED 系統(tǒng)適用于諸如潔凈室和環(huán)境試驗(yàn)艙的粒子檢測、檢測發(fā)動(dòng)機(jī)是否存在細(xì)紋的 NDT （無損檢測）過程或汽車行業(yè)中注射泵的泄漏檢測。

此外，這種窄帶黑光光譜非常適合用于鑒別藝術(shù)品或紙鈔的真?zhèn)巍?/p>

好樂紫外技術(shù)的所有產(chǎn)品系列均可用于熒光檢測領(lǐng)域以及其他所有領(lǐng)域，例如手持式移動(dòng)光源、高強(qiáng)度點(diǎn)光源和全自動(dòng)大面積 UV LED 系統(tǒng)。

陽光模擬

用于材料、老化和排放測試（冷低溫倉）、A / C 測試、引擎 / 發(fā)動(dòng)機(jī)冷卻的陽光模擬系統(tǒng) 

陽光輻射在我們的生活中扮演著很重要的角色。陽光的光譜范圍為 100 nm — 4,000 nm。其中包括有 UVC、UVB、UVA、可見光和紅外光波。

這種照射，特別是短波照射對絕大多數(shù)的現(xiàn)代材料都會(huì)產(chǎn)生影響。這就意味著在批準(zhǔn)材料上市前必須將材料暴露在陽光輻射下做材料測試。這一操作需要在名為露天風(fēng)化設(shè)備或集成有陽光模擬的特殊環(huán)境試驗(yàn)艙內(nèi)進(jìn)行。幾乎所有的環(huán)境條件（冷、熱、雨、海拔高度和陽光照射）都能在這些室內(nèi)進(jìn)行模擬。

Honle的陽光模擬系統(tǒng)根據(jù) CIE 20 – 80 標(biāo)準(zhǔn)定義的自然光光譜范圍 270 – 3000 nm 來模擬自然光照。還設(shè)立了幾個(gè)類似的標(biāo)準(zhǔn)，例如 DIN 75220（汽車元件老化）、MIL-STD 810（軍事領(lǐng)域環(huán)境測試）、 IEC 68（基本環(huán)境測試程序）、SC03-Test（EPA 機(jī)動(dòng)車輛排放測試）等等。

Honle的陽光模擬系統(tǒng)符合所有標(biāo)準(zhǔn)并可滿足客戶的不同要求。

帶有 IR 燈的照射系統(tǒng)可提供各種廉價(jià)陽光模擬系統(tǒng)。這種系統(tǒng)主要應(yīng)用于只需對測試材料進(jìn)行加熱或僅需熱輻射的情況下。

Honle UV設(shè)備在上海爾迪儀器科技有限公司有售，更多詳細(xì)資料，可聯(lián)系我司。