SEM（掃描電子顯微鏡）利用CP ( 截面拋光儀)制備的截面樣品，能直接觀察、分析鍍層的橫截面。XRF（X射線熒光光譜儀）雖然不能觀察截面的狀態(tài)，但可以快速、簡便地測量膜厚，在評估大批量生產(chǎn)時的不確定度、膜厚的均勻性等測試大量樣品的時候非常有效。將用于觀察的SEM和用于膜厚分析的XRF結合起來使用，可以實現(xiàn)GX率的質量管理。

分析實例：鎳鍍層的交叉檢查分析

       鍍層厚度是決定產(chǎn)品的特性、質量的重要因素。因此，對膜厚有著多種測試、分析和評定方法?；瘜W鍍鎳被廣泛應用于電子/電器部件的表面處理，下面是對鍍鎳層進行的交叉檢查：利用掃描電子顯微鏡(SEM)直接觀察截面、利用X射線熒光光譜儀(XRF)進行膜厚分析。

1.用XRF測試膜厚

60秒鐘測試

分析結果 

3.74 μm

定量結果

P：8.3 mass%

Ni：91.7 mass%

無需前處理，能快速測試。

還能對Ni、P的成分同時進行定量分析。

2.用SEM觀察截面

膜厚測量結果

平均 3.73 μm

能在放大觀察鍍層截面的同時進行測長。

安裝選配件EDS，還能進行鍍層截面的元素分析。

各就各位，預備！

4月28日，我們將翻開XRF鍍層分析的新篇章。快準備好沖破您和您的數(shù)據(jù)之間的障礙，把業(yè)務駛向快車道。 在這次的全 球線上新品發(fā)布會中，我們的團隊將向您展示:  

• 如何借助日立的新技術，更快完成每一次鍍層分析

• 如何讓您的分析數(shù)據(jù)更快付諸實踐

• XRF的未來，還能如何更加智能至簡？

亞太、歐洲、中東、非洲

2022/4/28

北京時間 下午4點
印度時間 下午1點30分
英國夏令時 上午9點
中歐夏令時 上午10點

根據(jù)《GB/T 21187-2007 原子吸收分光光度計》 和《JJG 023-1996 原子吸收光譜儀檢定規(guī)程》規(guī)定，原子吸收光譜儀（AAS）的波長邊緣能量的長波長端需要標定銫（Cs）在 852.1 nm 處的背景。Cs 是低熔點元素，普通的 Cs 空心陰極燈具有不穩(wěn)定的缺點，所以無論是在檢定過程中，還是在日常樣品檢測中都無法保證靈敏度和穩(wěn)定性。

PinAAcle ? 900T AAS

PerkinElmer ZL的無極放電燈（EDL）具有強度高、穩(wěn)定性好、壽命長等優(yōu)點，非常適合用作 Cs 的光源。 采用 Perkinelmer 公司的 PinAAcle 900T AAS，可對飲用水樣中的 Cs 進行測定，靈敏度高，穩(wěn)定性好，加標回收率穩(wěn)定。Cs 容易揮發(fā)，配置標準儲備液時一定要帶酸基質，建議采用 0.5% 的硝酸以確保標準溶液的穩(wěn)定性。此外，采用 0.2%（V/ V）硫酸作為基體改進劑可改善峰形，提高測量的重現(xiàn)性。

表 1. 儀器參數(shù)

圖 1 . Cs 校準曲線與峰形

表 2. 樣品加標回收率