Hakuto 日本原裝設(shè)計(jì)制造離子刻蝕機(jī) IBE , 提供微米級刻蝕 , 滿足所有材料的刻蝕 , 即使對磁性材料 , 金銅鎳銀鉑等金屬及復(fù)合半導(dǎo)體材料 , 這些難刻蝕的材料也能進(jìn)行微米級刻蝕 .

伯東離子刻蝕機(jī) IBE 組成主要包含真空刻蝕腔體 , 樣品臺 , 離子源等 .

其配置如下 ：

一. 真空腔體

伯東離子刻蝕機(jī) IBE 的真空刻蝕腔體配置的是德國 Pfeiffer 分子泵 .

Pfeiffer 分子泵抽速范圍 10 至 2700 L/S , 轉(zhuǎn)速高 90,000 rpm , 極限真空 1E-11 mbar , 能滿足各種各樣真空度要求 .

伯東是 Pfeiffer Vacuum 德國普發(fā)真空產(chǎn)品授權(quán)代理商 , 銷售維修普發(fā) Pfeiffer 真空產(chǎn)品已超過 20 年 .

二. 離子源

伯東離子刻蝕機(jī) IBE 配置的美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 考夫曼 離子源 .

可選的離子源包括 ：

射頻離子源 : RFICP380 , RFICP220 , RFICP140 , RFICP100 , RFICP40

考夫曼離子源 : KDC160 , KDC100 , KDC75 , KDC40 , KDC10

霍爾離子源 : eH3000 , eH2000 , eH1000 , eH400 , 線性霍爾離子源 eH Linear

伯東公司是美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源亞洲總代理 .

三. 樣品臺

伯東離子刻蝕機(jī) IBE 的樣品臺可選直接冷卻 / 間接冷卻 / 水冷 , 而且可以 0-90 度旋轉(zhuǎn) .

其中基片尺寸大小支持 Φ3 inch , Φ4 inch , Φ5 inch , Φ6 inch , Φ8 inch 等各種尺寸 .

伯東離子刻蝕機(jī) IBE 優(yōu)勢 :

伯東離子刻蝕機(jī)集好設(shè)備于一身 , 其性能也是優(yōu)越于市面上絕大部分離子刻蝕機(jī) .

1. 刻蝕材料范圍廣, 提供微米級刻蝕 , 滿足所有材料的刻蝕, 即使對黃金 Au , 鉑 Pt , 合金等金屬及半導(dǎo)體材料也能提供優(yōu)質(zhì)蝕刻

2. 均勻性高 , 高達(dá) ≤±5%

3. 硅片刻蝕率可達(dá) 20 nm/min

4. 樣品臺冷卻方式多 , 可選直接冷卻 , 間接冷卻

5. 樣品臺可 0-90 度旋轉(zhuǎn)

伯東離子蝕刻機(jī) IBE 包含小型離子蝕刻用于研究分析和大型離子蝕刻系統(tǒng)用于生產(chǎn)制造 , 已應(yīng)用于半導(dǎo)體器件 , 集成電路制造 , 薄膜電路 , 印刷電路 , 手機(jī)背板鍍膜 , 手機(jī)廣角鏡頭鍍膜等 .

伯東離子刻蝕機(jī) IBE 可選型號有 : 20IBE-J , 20IBE-C , 10IBE , 7.5IBE

離子束刻蝕（IBE）技術(shù)研究

1.離子束刻蝕（IBE）技術(shù)的原理？

離子束刻蝕（IBE，Ion Beam Etching）也稱為離子銑（IBM，Ion Beam Milling），也有人稱之為離子濺射刻蝕，是利用輝光放電原理將氬氣分解為氬離子，氬離子經(jīng)過陽極電場的加速對樣品表面進(jìn)行物理轟擊，以達(dá)到刻蝕的作用?？涛g過程即把Ar氣充入離子源放電室并使其電離形成等離子體，然后由柵極將離子呈束狀引出并加速，具有一定能量的離子束進(jìn)入工作室，射向固體表面轟擊固體表面原子，使材料原子發(fā)生濺射，達(dá)到刻蝕目的，屬純物理刻蝕。工件表面有制備溝槽的掩膜，最后裸露的部分就會被刻蝕掉，而掩膜部分則被保留，形成所需要的溝槽圖形。

離子束刻蝕使高方向性的中性離子束能夠控制側(cè)壁輪廓，優(yōu)化納米圖案化過程中的徑向均勻性和結(jié)構(gòu)形貌。另外傾斜結(jié)構(gòu)可以通過傾斜樣品以改變離子束的撞擊方向這一獨(dú)特能力來實(shí)現(xiàn)。

在離子束刻蝕過程中，通常情況下，樣品表面采用厚膠作為掩模層，刻蝕期間富有能量的離子流會使得基片和光刻膠過熱。為了便于后面光刻膠的剝離清洗，一般需要對樣品臺進(jìn)行冷卻處理，使整個刻蝕過程中溫度控制在一個比較好的范圍。

圖1 離子束刻蝕設(shè)備結(jié)構(gòu)圖

圖2 離子束刻蝕工藝原理圖

2.離子束刻蝕（IBE）適合的材料體系？

可用于刻蝕加工各種金屬（Ni、Cu、Au、Al、Pb、Pt、Ti等）及其合金，以及非金屬、氧化物、氮化物、碳化物、半導(dǎo)體、聚合物、陶瓷、紅外和超導(dǎo)等材料。

目前離子束刻蝕在非硅材料方面優(yōu)勢明顯，在聲表面波、薄膜壓力傳感器、紅外傳感器等方面具有廣泛的用途。

3. 離子束刻蝕（IBE）技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)和缺點(diǎn)？

a 優(yōu)點(diǎn)：

 （1）方向性好、無鉆蝕、陡直度高；

 （2）刻蝕速率可控性好，圖形分辨率高，可達(dá)0.01um；

 （3）屬于物理刻蝕，可以刻蝕各種材料（Si、SiO2、GaAs、Ag、Au、光刻膠等）；

 （4）刻蝕過程中可改變離子束入射角來控制圖形輪廓，加工特殊的結(jié)構(gòu)；

b 缺點(diǎn)：

 （1）刻蝕速率慢、效率比ICP更低；

 （2）難以完成晶片的深刻蝕；

 （3）屬于物理刻蝕，常常會有過刻的現(xiàn)象。

4.反應(yīng)離子束刻蝕（RIBE）技術(shù)簡介及優(yōu)點(diǎn)？

反應(yīng)離子束刻蝕（RIBE）是在離子束刻蝕的基礎(chǔ)上，增加了腐蝕性氣體，因此它不但保留了離子束物理刻蝕能力，還增加了腐蝕性氣體（氟基氣體、O2）離化后對樣品的化學(xué)反應(yīng)能力（反應(yīng)離子束刻蝕：RIBE），也支持腐蝕性氣體非離化態(tài)的化學(xué)輔助刻蝕能力（化學(xué)輔助離子束刻蝕：CAIBE），對適用于化學(xué)輔助的材料可以大幅度提升刻蝕速率，提高刻蝕質(zhì)量。

5. 離子束刻蝕（IBE）的案例展示  

典型應(yīng)用：

1、三族和四族光學(xué)零件

2、激光光柵

3、高深寬比的光子晶體刻蝕

4、在二氧化硅、硅和金屬上深溝刻蝕

5、微流體傳感器電極

6、測熱式微流體傳感器

某不銹鋼軟管生產(chǎn)企業(yè)采用伯東 Pfeiffer  氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM340  對波紋管進(jìn)行檢漏. 其生產(chǎn)的波紋管廣泛用于石化, 冶煉, 航空航天, 建筑,電力, 供熱管道, 機(jī)械制造等行業(yè).

氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM340 技術(shù)參數(shù):

氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM340 優(yōu)點(diǎn):

1. 前級泵配備旋片泵（油泵）Adixen Pascal 1015 I 抽速高達(dá)15 m3/h

2. 分流式分子泵 Pfeiffer Splitflow 50 對氦氣抽速 2.5 l/s

3. 氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340 對氦氣的最小檢檢漏率：

   真空模式：5E-13 Pa m3/s

   吸槍/模式：5E-10 Pa m3/s 目前業(yè)界公認(rèn)最小漏率

4. 移動式操作面板（有線、無線）

5. 集成SD卡, 方便資料處理

6. 抗破大氣、抗震動, 降低由操作失誤帶來的風(fēng)險性

7. 豐富的可選配件, 如吸槍、遙控器、小推車、旁路裝置、標(biāo)準(zhǔn)漏孔等

8. 檢測時間短

待檢漏產(chǎn)品: 定制超長波紋管

焊接波紋管檢漏原因:

波紋管通常通過激光焊接連接至法蘭或外殼. 激光焊接會產(chǎn)生光性均勻焊縫, 通過肉眼無法判斷是否存在泄漏, 焊接波紋管對氣密性的要求很高, 傳統(tǒng)的泄漏測試, 如染料滲透測試, 制冷劑嗅探或氣泡測試不能達(dá)到客戶工業(yè)生產(chǎn)的要求, 因此需要引入氦質(zhì)譜檢漏儀進(jìn)行泄漏檢測.

若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)產(chǎn)品信息或討論 , 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式 :

上海伯東 : 羅先生                               臺灣伯東 : 王小姐
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
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國內(nèi)著名激光焊接供應(yīng)商-某新能源行業(yè)領(lǐng)軍企業(yè)采用伯東 Pfeiffer 氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM340 用于鋰電池檢漏系統(tǒng), 對鋰電池外殼進(jìn)行檢漏.

氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM340 技術(shù)參數(shù):

氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340 優(yōu)點(diǎn):

1. 前級泵配備旋片泵（油泵）Adixen Pascal 1015 I 抽速高達(dá)15 m3/h

2. 分流式分子泵 Pfeiffer Splitflow 50 對氦氣抽速 2.5 l/s

3. 氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340 對氦氣的最小檢檢漏率：

   真空模式：5E-13 Pa m3/s

   吸qiang模式：5E-10 Pa m3/s 目前業(yè)界公認(rèn)最小漏率

4. 移動式操作面板（有線、無線）

5. 集成SD卡, 方便資料處理

6. 抗破大氣、抗震動, 降低由操作失誤帶來的風(fēng)險性

7. 豐富的可選配件, 如吸槍、遙控器、小推車、旁路裝置、標(biāo)準(zhǔn)漏孔等

8. 檢測時間短

客戶現(xiàn)場使用圖:

鋰電池需要檢漏原因:

一般的鋰離子電池單元由一個正極, 一個負(fù)極和一個隔膜以及電解質(zhì)構(gòu)成. 這些單元在包裝內(nèi)排列. 由于鋰金屬的化學(xué)特性非常活潑, 使得鋰金屬的加工, 保存, 使用對環(huán)境要求非常高. 鋰電池主要是外殼焊接處需要檢漏, 如果鋰電池里面的電解液因?yàn)橥鈿さ牟幻芊庑远孤冻鰜砜膳c潮濕環(huán)境產(chǎn)生劇烈反應(yīng), 不僅對環(huán)境和人員造成嚴(yán)重的危害, 同時影響設(shè)備使用壽命, 所以鋰電池在組裝和密封 ( 圓柱形及棱柱形單元通過焊接）環(huán)節(jié), 需要進(jìn)行泄漏測試.

某汽車廠商對變速器的漏率規(guī)格要求<=1E-2 mbar.l/s, 經(jīng)過伯東推薦, 采購伯東 Hakuto 檢漏儀 Dan-100 用于汽車變速器檢漏

零件檢漏系統(tǒng)-檢漏儀 Hakuto-Dan-100 技術(shù)參數(shù):

檢漏儀 Hakuto-Dan-100 優(yōu)勢:

1. 干式檢漏, 無須后段干燥制程, 節(jié)省測試流程.

2. 機(jī)器自動判斷, 避免人為疏失.

3. 無須使用氦氣, 節(jié)省成本.

4. 無須充氣, 減少復(fù)雜的密封夾治具, 降低夾治具成本.

5. 無快速接頭, 避免快速接頭漏氣造成誤判.

6. 檢漏靈敏度：>= 1E-5 mbar l/s, 大幅超越氣泡檢漏及充氣檢漏.

7. 選定工件型號即自動帶入測試條件, 避免人為疏失.

8. 測試不合格品, 需主管同意才能取出, 避免人為疏失混入合格品.

檢漏儀 Hakuto-Dan-100 檢漏原理:

將待測物抽真空, 使用偵測器量測進(jìn)入待測物的空氣量.  

隨著汽車工業(yè)的高速發(fā)展, 對汽車各個部件的密封性能, 測試效率, 檢測可靠性提出越來越高的要求,  檢漏儀 Hakuto-Dan-100 作為一種無損干式檢漏, GX的全新泄漏檢測手段, 廣泛應(yīng)用于汽車制造業(yè)!

等離子體的產(chǎn)生主要是靠電子去撞擊中性氣體原子，使中性氣體原子解離而產(chǎn)生等離子體，但中性氣體原子核對其外圍的電子有一束縛的能量，我們稱它為束縛能，而外界的電子能量必須大于此束縛能，才會有能力解離此中性氣體原子，但是，此外界的電子往往是能量不足的，沒有解離中性氣體原子的能力，所以，我們必須用外加能量的方法給原子電子能量，使電子有利用解離此中性氣體原子。

中性氣體原子解離而產(chǎn)生等離子體 -kimberlite

用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同，它的方向性不強(qiáng)，因此它可以深入物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部并完成清洗任務(wù)，所以不必過多考慮被清洗物體形狀的影響，而且對這些難清洗部位的清洗效果與用氟里昂清洗的效果相似甚至更好。

kimberlite金鉑利萊等離子清洗機(jī)

利用等離子體里的離子作純物理的撞擊，把材料表面的原子或附著材料表面的原子打掉，由于離子在壓力較低時的平均自由基較輕長，有得能量的累積，因而在物理撞擊時，離子的能量越高，越是有的作撞擊，所以若要以物理反應(yīng)為主時，就必須控制較的壓力下來進(jìn)行反應(yīng)，這樣清洗效果較好哦。

本文由金鉑利萊等離子刻蝕機(jī)廠家分享，更多新消息歡迎關(guān)注我們！

等離子表面清洗機(jī)已經(jīng)廣泛用于手機(jī)行業(yè)、玻璃行業(yè)、電子電路行業(yè)、材料行業(yè)、印刷造紙、纖維服裝等等。

等離子清洗機(jī)廣泛應(yīng)用多個行業(yè),到底哪里好

等離子清洗的技術(shù)特點(diǎn)是：它不分處理對象，可處理不同的基材，無論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、環(huán)氧樹脂等高聚物)都可用等離子體很好地處理，因此，特別適合不耐熱和不耐溶劑的基底材料。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行部分清洗。

等離子清洗的機(jī)理是依靠處于“等離子態(tài)”的物質(zhì)的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。從目前各類清洗方法來看，可能等離子體清洗也是所有清洗方法中徹底的剝離式的清洗了。

kimberlite 等離子清洗機(jī)廣泛應(yīng)用多個行業(yè)

福州大學(xué)離子束刻蝕機(jī)順利驗(yàn)收

烈日炎炎，熱情滿心間！后疫情時代，NANO-MASTER工程師步履不停，一站接一站為客戶提供設(shè)備安裝調(diào)試服務(wù)。首站福州大學(xué)，那諾-馬斯特工程師已順利安裝驗(yàn)收NIE-3500型離子束刻蝕機(jī)！

性能配置：

• 離子束刻蝕機(jī)用于刻蝕金屬和介質(zhì)，z大可支持6”晶圓。

• 配套美國考夫曼-羅賓遜 KDC160離子槍，650mA，100-1200V?？涛g速率：~250A/min對Au；刻蝕均勻度：對4”片，片內(nèi)均勻性優(yōu)于±3%，重復(fù)性優(yōu)于±3%。

• 樣品臺可旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速0-30RPM精確可控；可任意角度傾斜，支持斜齒刻蝕；帶水冷功能，刻蝕后易去除光刻膠。

• 極限真空12小時可達(dá)6x10-7Torr，15分鐘可達(dá)10-6Torr量級的真空；采用雙真空計(jì)，長期可靠，使用穩(wěn)定。

• 14”不銹鋼立方腔體，配套一臺主控計(jì)算機(jī)，20”觸摸屏監(jiān)控，配合Labview軟件，實(shí)現(xiàn)計(jì)算機(jī)全自動工藝控制，并可在電源中斷情況下安全恢復(fù)；完全的安全聯(lián)鎖；支持百級超凈間使用。

  
  

驗(yàn)收培訓(xùn)：

安裝調(diào)試視頻：

氦質(zhì)譜檢漏儀中壓開關(guān)柜檢漏
應(yīng)用于電力行業(yè)的中壓開關(guān)柜, 廣泛使用在發(fā)電廠, 變電站, 地區(qū)電網(wǎng)和輸電站中. 另外也適用于船舶, 高鐵等行業(yè). 中壓開關(guān)柜是一種金屬封閉開關(guān)設(shè)備, 它對中壓開關(guān)以外的其他設(shè)備, 起到很好的絕緣性能, 避免電弧燒穿電力設(shè)備, 保障電力使用上的安全, 中壓開關(guān)柜內(nèi)部通過吸和開關(guān)控制電路.

開關(guān)吸合器需要檢漏
中壓開關(guān)柜內(nèi)部通過吸和開關(guān)控制電路, 吸合器內(nèi)部真空環(huán)境, 如果有漏, 吸合開關(guān)就會失效, 造成通電終斷, 導(dǎo)致事故發(fā)生. 因此需要進(jìn)行檢漏.

上海伯東中壓開關(guān)柜檢漏客戶案例: 某國際知名中壓開關(guān)生產(chǎn)企業(yè), 生產(chǎn)的中壓空氣絕緣開關(guān)柜產(chǎn)品系列采用真空開關(guān)技術(shù), 其內(nèi)部的吸和開關(guān)需要進(jìn)行檢漏, 漏率要求 <1x10-7 mbar l/s, 采用真空模式檢漏, 通過伯東推薦采購德國 Pfeiffer 氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340.

上海伯東推薦中壓開關(guān)柜檢漏用氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340

結(jié)合了 Pfeiffer 與 Adixen 兩家檢漏儀的技術(shù)優(yōu)勢, 上海伯東德國 Pfeiffer 推出全系列新型號氦質(zhì)譜檢漏儀, 從便攜式檢漏儀到工作臺式檢漏儀滿足各種不同的應(yīng)用. 氦質(zhì)譜檢漏儀替代傳統(tǒng)泡沫檢漏和壓差檢漏, 利用氦氣作為示蹤氣體可精確定位, 定量漏點(diǎn). 氦質(zhì)譜檢漏儀滿足單機(jī)檢漏, 也可集成在檢漏系統(tǒng)或 PLC. 推薦氦質(zhì)譜檢漏儀應(yīng)用 >>

若您需要進(jìn)一步的了解開關(guān)吸合器檢漏, 請聯(lián)絡(luò)上海伯東葉小姐,分機(jī)109