等離子去膠機（Plasma Cleaner）

為何要去除光刻膠？

在現(xiàn)代半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中，會大量使用光刻膠來將電路板圖圖形通過掩模版和光刻膠的感光與顯影，轉(zhuǎn)移到晶圓光刻膠上，從而在晶圓表面形成特定的光刻膠圖形，然后在光刻膠的保護下，對下層薄膜或晶圓基底完成進行圖形刻蝕或離子注入，最后再將原有的光刻膠徹底去除。

去膠是光刻工藝中的最后一步。在刻蝕/離子注入等圖形化工藝完成后，晶圓表面剩余光刻膠已完成圖形轉(zhuǎn)移和保護層的功能，通過去膠工藝進行完全清除。

光刻膠去除是微加工工藝過程中非常重要的環(huán)節(jié)，光刻膠是否徹底去除干凈、對樣片是否有造成損傷，都會直接影響后續(xù)集成電路芯片制造工藝效果。

半導(dǎo)體光刻膠去除工藝有哪些？

半導(dǎo)體光刻膠去除工藝，一般分成兩種，濕式去光刻膠和干式去光刻膠。濕式去膠又根據(jù)去膠介質(zhì)的差異，分為氧化去膠和溶劑去膠兩種類別。干式去膠適合大部分去膠工藝，去膠徹底且速度快，是現(xiàn)有去膠工藝中zui好的方式。

一、等離子去膠機簡述：

氧等離子去膠是利用氧氣在微波發(fā)生器的作用下產(chǎn)生氧等離子體，具有活性的氧等離子體與有機聚合物發(fā)生氧化反應(yīng)，使有機聚合物被氧化成水蒸汽和二氧化碳等排除腔室，從而達到去除光刻膠的目的，這個過程我們有時候也稱之為灰化或者剝離。氧等離子去膠相比于濕法去膠工藝更為簡單、適應(yīng)性更好，去膠過程純干法工藝，無液體或者有機溶劑參與。當然我們需要注意的是，這里并不是說氧等離子去膠工藝100%好于濕法去膠，同時也不是所有的光刻膠都適用于氧等離子去膠，以下幾種情形我們需要注意：

① 部分穩(wěn)定性極高的光刻膠如SU-8、PI（聚酰亞胺），往往膠厚也比較大，純氧等離子體去膠速率也比較有限，為了保證快速去膠，往往還會在工藝氣體中增加氟基氣體增加去膠速率，因此不只是氧氣是反應(yīng)氣體，有時候我們也需要其他氣體參與；

② 涂膠后形成類非晶態(tài)二氧化硅的HSQ光刻膠。由于其構(gòu)成并不是單純的碳氫氧，所以是無法使用氧等離子去膠機來實現(xiàn)去膠；

③ 當我們的樣品中有其他需要保留的結(jié)構(gòu)層本身就是有機聚合物構(gòu)成的，在等離子去膠的過程中，這些需要保留的層也可能會在氧等離子下發(fā)生損傷；

④ 樣品是由容易氧化的材料或者有易氧化的結(jié)構(gòu)層，氧等離子去膠過程，這些材料也會被氧化，如金屬AG、C、CR、Fe以及Al，非金屬的石墨烯等二維材料；

市面上常見氧等離子去膠機按照頻率可分為微波等離子去膠機和射頻等離子去膠機兩種，微波等離子去膠機的工作頻率為2.45GHz，射頻等離子去膠機的工作頻率為13.5MHz，更高的頻率決定了等離子體擁有更高的離子濃度、更小的自偏壓，更高的離子濃度決定了去膠速度更快，效率更高；更低的自偏壓決定了其對襯底的刻蝕效應(yīng)更小，也意味著去膠過程中對襯底無損傷，而射頻等離子去膠機其工作原理與刻蝕機相似，結(jié)構(gòu)上更加簡單。因此，在光電器件的加工中，去膠機的選擇更推薦使用損傷更小的微波等離子去膠機。

二、等離子清洗去膠機的工作原理：

氧氣是干式等離子體脫膠技術(shù)中的首要腐蝕氣體。它在真空等離子體脫膠機反應(yīng)室內(nèi)高頻和微波能的作用下，電離產(chǎn)生氧離子、自由氧原子O*、氧分子和電子混合的等離子體，其間氧化能力強的自由氧原子（約10-20%）在高頻電壓作用下與光刻膠膜發(fā)生反應(yīng)：O2→O*+O*，CxHy+O*→CO2↑+H2O↑。反應(yīng)后產(chǎn)生的CO2和H2O然后被抽走。

三、等離子去膠機的優(yōu)勢：

1、等離子清洗機的加工過程易于控制、可重復(fù)且易于自動化；使用等離子掃膠機可以使得清洗效率獲得更大的提高。整個清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成，因此具有產(chǎn)率高的特點

2、等離子掃膠機清洗對象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序，可以提高整個工藝流水線的處理效率；

3、等離子掃膠機使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害，同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題；

4、避免使用ODS有害溶劑，這樣清洗后不會產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法；

5、等離子去膠機采用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同，等離子體的方向性不強，這使得它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務(wù)，因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀；

6、等離子去膠機在完成清洗去污的同時，還可以改良材料本身的表面性能，如提高表面的潤濕性能、改良膜的黏著力等，這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。

四、等離子去膠的主要影響因素：

頻率選擇：頻率越高，氧越易電離形成等離子體。頻率太高，以至電子振幅比其平均自由程還短，則電子與氣體分子碰撞幾率反而減少，使電離率降低。一般常用頻率為 13.56MHz及2.45GHZ 。

功率影響：對于一定量的氣體，功率大，等離子體中的的活性粒子密度也大，去膠速度也快；但當功率增大到一定值，反應(yīng)所能消耗的活性離子達到飽和，功率再大，去膠速度則無明顯增加。由于功率大，基片溫度高，所以應(yīng)根據(jù)工藝需要調(diào)節(jié)功率。

真空度的選擇：適當提高真空度，可使電子運動的平均自由程變大，因而從電場獲得的能量就大，有利電離。另外當氧氣流量一定時，真空度越高，則氧的相對比例就大，產(chǎn)生的活性粒子濃度也就大。但若真空度過高，活性粒子濃度反而會減小。

氧氣流量的影響：氧氣流量大，活性粒子密度大，去膠速率加快；但流量太大，則離子的復(fù)合幾率增大，電子運動的平均自由程縮短，電離強度反而下降。若反應(yīng)室壓力不變，流量增大，則被抽出的氣體量也增加，其中尚沒參加反應(yīng)的活性粒子抽出量也隨之增加， 因此流量增加對去膠速率的影響也就不甚明顯。

五、等離子去膠機的應(yīng)用：

1、光刻膠的去除、剝離或灰化

2、SU-8的去除/ 犧牲層的去除

3、有機高分子聚合物的去除

4、等離子去除殘膠/去浮渣/打底膜

5、失效分析中的扁平化處理

6、表面沾污清除和內(nèi)腐蝕（深腐蝕）應(yīng)用

7、清洗微電子元件，電路板上的鉆孔或銅線框架

8、剝離金屬化工藝前去除浮渣

9、提高黏附性，消除鍵合問題

10、塑料的表面改型：O2處理以改進涂覆性能

11、產(chǎn)生親水或疏水表面

小編知道很多的行業(yè)都會使用等離子清洗機，因為等離子清洗設(shè)備在現(xiàn)在的工業(yè)和商業(yè)上都發(fā)揮它的貢獻。所以小編就來給大家分析等離子清洗機原理。其實很多等離子設(shè)備原理都有相同點和差異性。

首先大家要了解什么是等離子，等離子體的定義：等離子體（plasma）是一團含有正離子、電子、自由基及中性氣體原子所組成的會發(fā)光的氣體團，如日光燈、霓紅燈發(fā)亮的狀態(tài)，就是屬于等離子體發(fā)亮的狀態(tài)。等離子體的產(chǎn)生最主要是靠電子去撞擊中性氣體原子，使中性氣體原子解離而產(chǎn)生等離子體，但中性氣體原子核對其外圍的電子有一束縛的能量，我們稱它為束縛能，而外界的電子能量必須大于此束縛能，才會有能力解離此中性氣體原子，但是，此外界的電子往往是能量不足的，沒有解離中性氣體原子的能力，所以，我們必須用外加能量的方法給原子電子能量，使電子有利用解離此中性氣體原子。

等離子清洗機原理就是利用等離子的特性使用大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，不但清除了表面原有的污染物和雜質(zhì)，而且會產(chǎn)生刻蝕作用，將樣品表面變粗糙，形成許多微細坑洼，增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤濕性能。要外加能量給電子，最簡單的方法就是用平行電極板加一直流電壓，電子在電極中，會被帶正電的電極所吸引而加速，在加速的過程中電子可以累積能量，當電子的能量達到某一程度時，就有能力來解離中性氣體原子，能產(chǎn)生高密度等離子體的方法有很多種。

以上就上基本上就是等離子清洗機的原理了，一次沒看懂，沒關(guān)系可以聯(lián)系我們小編給你再次講解或者關(guān)注金鉑利萊kimberlite，當然需要等離子清洗設(shè)備的盡管放馬過來，我是專業(yè)集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體化的等離子清洗機的品牌公司。本出自深圳金鉑利萊科技，轉(zhuǎn)載請注明出處！

      YL技術(shù)行業(yè)要求制造工藝具有Z高的標準。表面不僅僅要求干凈，而且還要求一塵不染和無菌。我們的所有設(shè)備均配備了一個 USB 和 LAN 端口，以確?？梢愿鶕?jù)打印出來的工藝報告對預(yù)處理工藝流程進行跟蹤。如果企業(yè)需要證明其提供YL器械和相關(guān)服務(wù)的能力，由于我們已按照 DIN EN 13485 標準獲得了認證，所以我們滿足了質(zhì)量管理體系所規(guī)定的所有要求。

      我們還可以作為內(nèi)部表面處理服務(wù)為您提供該項工藝方法。為此，我們提供了多臺等離子設(shè)備以及經(jīng)驗豐富的資質(zhì)員工。按照 DIN ISO 14644 標準進行認證的 8 級凈化室使該項服務(wù)更加wan美。這樣，我們便能夠確保您的零部件和組件具有良好的表面質(zhì)量。

       實驗室廢水處理機可以自行處理日常實驗產(chǎn)生的污水，使其能達標排放，非常方便，而我們在購買實驗室廢水處理機時，除了要考慮產(chǎn)品、價格等因素，還要考慮實驗室的實際情況，以便能正確安裝設(shè)備。下面優(yōu)爾普儀器就帶大家來看看優(yōu)普廢水處理機在安裝時有什么條件，需要注意哪些方面。

優(yōu)普實驗室廢水處理機

優(yōu)普實驗室廢水處理機安裝的九個條件及注意事項

1、設(shè)備放置地面需水平，且周圍應(yīng)安裝通風(fēng)和照明設(shè)施。

2、電源：AC 220V輸入，水源：2公斤壓力接入。

3、安裝時應(yīng)將設(shè)備水平擺放至合適位置。

4、設(shè)備控制柜安裝時，應(yīng)注意將線纜用護套包裹進行防護。

5、應(yīng)將入水管道放置于后期方便維修的地方。

6、設(shè)備安裝完成后進行打壓試驗。

7、廢水處理設(shè)備維護時，應(yīng)請專業(yè)人員進行維護。

8、設(shè)備電氣方面維護時，應(yīng)請專業(yè)人員進行維護。

9、設(shè)備試運行時，應(yīng)密切注意觀察各系統(tǒng)配合情況，及時調(diào)整控制器參數(shù)。

　　以上就是優(yōu)普廢水處理機在實驗室安裝時需要注意的一些問題，用戶在購買儀器后，我們會根據(jù)實驗室的水路管網(wǎng)情況提前設(shè)計施工方案，然后派專業(yè)的技術(shù)人員上門安裝調(diào)試，以保證設(shè)備能夠正常運行使用。

文章轉(zhuǎn)自：http://www.ulp17.com/question/70.html

　有機廢水即以有機污染物為主的廢水，一般造紙、皮革和食品等行業(yè)會出現(xiàn)這類廢水，如果不加處理排放，就容易造成水質(zhì)富營養(yǎng)化，危害比較大。為解決這個問題，我們需要用到有機廢水處理機，而廢水處理機www.ulp17.com在運行管理和使用時有些要注意的地方，下面就和優(yōu)爾普一起來看看。

有機廢水處理機的運行管理方法

　　操作管理是指儀器設(shè)備在整個生產(chǎn)過程中的管理，即從選購安裝、操作使用、維護保養(yǎng)到報廢的全過程管理，那么對于有機廢水處理機，我們可從以下方面入手進行管理。

　　1、科學(xué)合理選擇設(shè)備

　　選對產(chǎn)品是做好工作的首要一步，也是管理好的前提，如果一臺設(shè)備三天兩頭出現(xiàn)問題，是談不上管理的，所以我們在買設(shè)備時要在成本允許的情況下盡量選擇技術(shù)先進、質(zhì)量可靠、節(jié)能降耗的設(shè)備。

　　2、安全正確使用

　　每臺設(shè)備都有其工作的上限值，我們在使用時要適當安排其工作任務(wù)，不可長時間超負荷運行，另外要培訓(xùn)好設(shè)備操作人員，使其能熟練操作。

　　3、做好設(shè)備的保養(yǎng)和維修工作，一臺設(shè)備能長久的運行，離不開對它的維護和保養(yǎng)，機械設(shè)備要定期進行檢查維護。

　　4、根據(jù)實驗和生產(chǎn)需要，有計劃的進行設(shè)備的更新改造。

　　5、做好關(guān)于儀器設(shè)備的驗收、登記、保管、報廢工作。

　　6、建立設(shè)備的單獨管理檔案，對維修和事故處理記錄在案。

UPFS-III綜合型污水處理機

有機廢水處理機的使用注意事項

　　1、處理廢水時，如果廢水濃度過高，應(yīng)酌情減少廢水流量;

　　2、設(shè)備運行時，應(yīng)注意溶解氣柜的壓力、水位以及混凝劑的投加量，以免影響氣浮的效果;

　　3、要經(jīng)常清楚格柵污垢，以免影響出水效果;

　　4、設(shè)備停止運行時，應(yīng)清除浮渣，關(guān)閉閘閥，并將設(shè)備內(nèi)的污物排空;

　　5、寒冷天氣下，有機廢水處理機應(yīng)做好保溫工作，防止管道流量計等部位凍結(jié)裂縫。

　　關(guān)于有機廢水處理機的六個運行管理方法及五個使用注意事項就為大家介紹到這里了，有機廢水一定要經(jīng)過科學(xué)處理才能排放，針對有機廢水的處理，優(yōu)普研發(fā)生產(chǎn)出UPFS-III綜合型廢水處理機，很好的解決了有機型廢水的排放不達標問題，讓您免除廢水排放的后顧之憂。

plasma等離子體處理消解醫(yī)用廢物環(huán)保處理設(shè)備

等離子體氣化裝置用于銷毀A、B、C、D和B級醫(yī)用廢物（任何醫(yī)用機構(gòu)產(chǎn)生的所有垃圾，以及在進行居民醫(yī)用預(yù)防活動的過程中）和放在專門的密閉容器和包裝中不同的分餾組成。

任何垃圾分類對環(huán)境和人口都具有巨大的潛在危害。 因此，醫(yī)用廢物在處置前要經(jīng)過消毒，以使它們組成的元素不會逸入外部環(huán)境。裝置的等離子反應(yīng)器內(nèi)部的熱影響無需完全打開防漏下載即可打開容器或包裝，從而以高的安全度銷毀廢物。

北京中海時代科技有限公司供應(yīng)德國進口常壓等離子發(fā)生器系統(tǒng)、手持壓電冷等離子發(fā)生器、壓電冷等離子發(fā)生器集成裝置、植入式等離子發(fā)生器 、手持常壓等離子發(fā)生器、密閉艙常壓等離子發(fā)生器、等離子體電源、等離子體粉末涂層涂裝繪圖機、等離子體裂解消解廢物固廢污水環(huán)保設(shè)備等。 

實驗室產(chǎn)生排放廢水的成分是非常復(fù)雜的，根據(jù)實驗項目的不同，水質(zhì)水量的差異很大，而且根據(jù)實驗設(shè)計不同，每次實驗中產(chǎn)生的金屬離子也不相同，這就提高了廢水處理的難度。

由于實驗室廢水的組成成分錯綜復(fù)雜，所以就要求處理工藝的科學(xué)性要高，其中包括處理項目和處理順序。優(yōu)普根據(jù)國家標準對實驗室水排放的要求，設(shè)計出一套科學(xué)的廢水處理工藝，并應(yīng)用到儀器設(shè)備上，接下來就跟隨優(yōu)爾普儀器的小編來看看優(yōu)普實驗室廢水處理機的處理工藝及其工作原理。

優(yōu)普實驗室廢水處理機工藝步驟及工作原理

工藝步驟：

集水箱→均質(zhì)→篩網(wǎng)過濾→PH預(yù)調(diào)→絮凝→重金屬捕捉→沉淀→過濾→微電解→化學(xué)氧化→中和→UV消毒→活性炭吸附→達標排放

各步驟工作原理：

diyi步：實驗廢水經(jīng)集水池收集均質(zhì)，可把不同實驗項目產(chǎn)生的廢水混合在一起，靜置一段時間后，使其濃度均勻，成分穩(wěn)定。

第二步：進水底閥和不銹鋼篩網(wǎng)過濾器可以過濾廢水中的微小顆粒物，使顆粒狀的雜質(zhì)不堵塞管道，保護后續(xù)水泵的安全。

第三步：通過儀器的加藥計量泵加入堿，將廢水pH值調(diào)整至11左右，用來去除一部分重金屬，為后續(xù)的重金屬捕捉提供反應(yīng)條件。

第四步：通過儀器的加藥計量泵加入復(fù)合絮凝劑，去除部分重金屬、無機物等，減少廢水中的COD、BOD、氨氮等物質(zhì)。

第五步：通過儀器的加藥計量泵加入重金屬捕捉劑，減少去除廢水中的重金屬離子。

重金屬捕捉劑是一種與重金屬離子QL螯合的化工藥劑，可在常溫和不嚴格的pH值條件范圍下，與廢水中的Cu2+、Hg2+、Pb2+、Cd2+、Mn2+、Ni2+、Zn2+、Cr3+等重金屬離子進行化學(xué)反應(yīng)，并且不受濃度高低影響。重金屬捕捉劑能在短時間內(nèi)迅速生成不溶性、低含水量、容易過濾去除的絮狀沉淀物，吸附溶解在水中的重金屬，然后被過濾去除。吸附了重金屬離子的金屬沉淀物具有良好的溫度穩(wěn)定性，很難重新釋放到環(huán)境中去。

第六步：利用鐵碳微電解填料進行微電解。鐵碳微電解填料是由具有高電位差的金屬合金融合催化劑，并采用高溫微孔活化技術(shù)生產(chǎn)而成，具有鐵炭一體化、熔合催化劑、微孔架構(gòu)式合金結(jié)構(gòu)、比表面積大、比重輕、活性強、電流密度大、作用水效率高等特點。作用有機污染物質(zhì)范圍廣，如含有偶氮、碳雙鍵、硝基、鹵代基結(jié)構(gòu)的難除降解有機物質(zhì)，能有效去除廢水毒性，顯著提高生化處理能力，可GX去除COD、降低色度、提高可生化性，處理效果穩(wěn)定，可避免運行過程中的填料鈍化、板結(jié)等現(xiàn)象，是微電解反應(yīng)持續(xù)作用的重要保證。采用電池原理設(shè)計的處理技術(shù)，可以自動調(diào)整廢水的pH值，截留廢水中的重金屬離子變成電極，并能電解廢水中大分子有機物，達到處理實驗室廢水的目的。

反應(yīng)機理

鐵炭原電池反應(yīng):

陽極: Fe - 2e →Fe2+ E(Fe / Fe)=0.44V

陰極: 2H + 2e →H2 E(H/ H2)=0.00V

當有氧存在時，陰極反應(yīng)如下:

O2 + 4H + 4e → 2H2O E (O2)=1.23V

O2 + 2H2O + 4e → 4OH+E(O2/OH)=0.41V

新型鐵炭包容式微電解技術(shù)可GX去除廢水中高濃度有機物、提高可生化性，同時還可避免運行過程中的填料鈍化、板結(jié)等現(xiàn)象，其是通過冶煉等手段將鐵及金屬催化劑與炭包容在一起形成架構(gòu)式鐵炭結(jié)構(gòu)，有以下優(yōu)點：

①此結(jié)構(gòu)鐵與炭永遠是一體，不會像鐵炭組配組合容易出現(xiàn)鐵與炭分離，影響原電池反應(yīng)。

②鐵炭一體可降低原電池反應(yīng)的電阻，從而提高電子的傳遞效率，提高處理效率。

③鐵炭一體可以避免鈍化的產(chǎn)生，架構(gòu)式的鐵炭結(jié)構(gòu)可以避免鈍化。

第七步：采用過硫酸氫鉀復(fù)合制劑作為含硫類物質(zhì)的氧化、廢水病毒的消殺和有機物分解。單元內(nèi)配置有加藥泵、單向閥、管道混合器、反應(yīng)箱、儲液桶等組件，無二次污染，確保污水達標排放。

第八步：中和工藝用來調(diào)節(jié)廢水的pH值，以達到合格的排放標準。

第九步：UV紫外線可以殺滅水中細菌，還可以發(fā)揮UV紫外光的作用，對水中有機、無機物質(zhì)進行催化反應(yīng)，分解一部分無機、有機物質(zhì)，進一步降低廢水的COD值。

第十步：柱狀果殼活性炭工藝主要是起安保作用，可以去除水中色素以及之前工藝處理殘留的重金屬。

關(guān)于實驗室廢水處理機的廢水處理工藝及其工作原理就為大家介紹到這里了，優(yōu)普廢水處理機的工藝已經(jīng)過多方面的測試和諸多用戶實際使用的檢驗，能穩(wěn)定處理實驗室污水，并且該工藝運行成本低，管理方便，是處理實驗室廢水的優(yōu)選儀器設(shè)備。

北京中海時代科技公司提供等離子plasma表面處理設(shè)備，致力于壓電低溫等離子體表面清洗處理、表面活化改性領(lǐng)域多年，等離子表面處理技術(shù)已被廣泛應(yīng)用到工業(yè)、YL、科研等行業(yè)。我們?yōu)槟峁┛煽康牡入x子表面處理解決方案。

超便捷手持壓電冷等離子發(fā)生器plasma

原理：系統(tǒng)的核心是CeraPlas 高頻等離子體，用于生成常壓冷活性等離子體的高壓直接放電器件。Zda功耗為18W，憑借壓電直接放電技術(shù)（Piezoelectric Direct Discharge Technology – PDD技術(shù)?)可將低輸入電壓轉(zhuǎn)化為高強度的電場，通常高強度的電場可使周圍的工作氣體（通常為空氣）分解并電離。壓電高壓等離子體發(fā)生器具有高電離率和GX的臭氧產(chǎn)生率，同時還具有多氣體點火、低功耗以及無感應(yīng)磁場等特點。

可以產(chǎn)生溫度低于50攝氏度的冷活性等離子體，能GX加工活化材料表面，同時還可以殺菌消毒和祛除異味。

piezo系列設(shè)備是專為終端用戶所開發(fā)，使用piezo系列產(chǎn)品既不需要特殊專業(yè)的知識，也不需要操作昂貴復(fù)雜的系統(tǒng)設(shè)備。實際上，便攜式設(shè)備的處理性能從前只能在更大型的設(shè)備系統(tǒng)中才能達到。適用于實驗室開發(fā)以及小批量產(chǎn)品的研發(fā)和組裝加工。這成為了在實驗室、YL、小型工廠或者工業(yè)手動操作領(lǐng)域Z理想的選擇。

應(yīng)用領(lǐng)域

接合技術(shù)
   小批量生產(chǎn)加工
   YL和牙科技術(shù)
   實驗室的研發(fā)設(shè)備
   原型和樣品模型制造
   生產(chǎn)流程的開發(fā)和優(yōu)化
   微生物、微流體以及食品生產(chǎn)

優(yōu)勢

可替換模塊

功率密度非常高

壓電直接放電控制

小體積緊湊型超便捷

氣體分子的激發(fā)是GX而安全的

注重產(chǎn)品的可用性以及界面友好性

潛在用途

精細清潔
殺菌消毒和祛除異味

提高材料表面潤濕性

各種基礎(chǔ)材料表面的活化加工處理
優(yōu)化黏合、噴漆、印刷以及涂層處理工藝
塑料、玻璃、陶瓷、金屬、半導(dǎo)體、天然纖維以及復(fù)合材料的表面加工

處理技術(shù)參數(shù)

• 供電電源：110-240      伏 / 50-60 赫茲交流電

• Zda功耗：18      瓦

• 重量：110      克

• 產(chǎn)品組成：手持式設(shè)備帶電源線，集成風(fēng)扇

• 音量：45      分貝

• 等離子體溫度：不超過 50 攝氏度

• 加工處理速度：5      平方厘米/秒

• 加工處理距離：2      – 10 毫米

• 加工處理寬度：5      – 29 毫米

• 過程控制：秒表、定時器、節(jié)拍器

可替換模塊

為了取得**的加工處理效果，不同類型的材料表面需要使用相應(yīng)的模塊組件進行活化加工處理。我們目前為piezo手持式等離子體發(fā)生器提供兩種不同的可替換模塊組件。piezo所產(chǎn)生的冷活性等離子體是基于壓電直接放電技術(shù)（Piezoelectric Direct Discharge Technology – PDD技術(shù)?）中的高強度電場放電形成的。因此，待處理材料表面的電導(dǎo)率是選擇相應(yīng)可替換模塊組件的重要參考。

標準模塊是專門為非導(dǎo)電材料（例如塑料、陶瓷以及玻璃等）表面加工處理設(shè)計的。為了獲得**的加工處理效果，推薦的使用距離為1 – 5毫米。如果加工材料表面產(chǎn)生不受控制的偏移或者翻轉(zhuǎn)，等離子體加工設(shè)備將自動切斷電源并關(guān)閉。在這種情況下，材料表面將會部分導(dǎo)電，因此后續(xù)的加工處理請使用近場模塊進行操作。

近場模塊用于處理（部分）導(dǎo)電材料例如金屬、碳纖維強化聚合物、鉛玻璃以及導(dǎo)電塑料等。如果是帶有到店涂層的材料或是產(chǎn)品中帶有導(dǎo)電組件的情況下，也建議使用近場模塊以獲得**的加工處理效果。只有當近場模塊足夠接近待處理的導(dǎo)電材料表面時（也可以穿透所覆蓋的薄絕緣涂層），才會激發(fā)點燃等離子體。當距離在幾毫米的范圍內(nèi)，近場模塊和待處理材料表面之間可以看見紫光，表明加工處理正在進行。

系統(tǒng)會自動識別當前所使用的模塊類型，并相應(yīng)地調(diào)整加工處理參數(shù)。

液晶顯示

為了更好的控制等離子體的各種加工處理過程，piezo等離子配備了一塊液晶顯示屏用來顯示和調(diào)用各種不同的功能：

• 過程控制：
       秒表：用來測量時間
       定時器：具有自動結(jié)束功能的定時功能
       節(jié)拍器：在設(shè)定的加工處理間隔以后，會給予聲音反饋

• 功耗設(shè)置：多級可調(diào)的等離子體功能