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磁控濺射系統(tǒng)主要用于半導體應用,同時也可以用于各種需要進行微納工藝濺射鍍膜的情形??捎糜诮饘俨牧希ń?、銀、銅、鎳、鉻等)的直流濺射、直流共濺射,絕緣材料(如陶瓷等)的射頻濺射,以及反應濺射能力?;芍С止杵?,氧化硅片,玻璃片,以及對溫度敏感的有機柔性基片等。
設(shè)備優(yōu)勢01鍍膜均勻性
對于最關(guān)鍵的鍍膜的均勻性方面,對于6”硅片的金屬材料鍍膜,NANO-MASTER可以達到優(yōu)于3%的鍍膜均勻度,而一些設(shè)備只能穩(wěn)定在5%甚至更高。
02設(shè)備制造工藝
在配備相似等級的分子泵及機械泵的情況下,NANO-MASTER具有更快的抽真空速率,比如可以在20-25分鐘左右就達到高真空工藝,而一些設(shè)備則需要30-40分鐘。腔體真空的穩(wěn)定度影響鍍膜的性能。
03工藝的可重復性
NANO-MASTER設(shè)備在工藝控制方面,有更高的自動化能力,通過PC控制,減少人工干預造成的工藝偏差。而一些設(shè)備要求人工配合,導致不同人采用同樣的工藝做出來的效果不同,甚至同一個人在不同時間運行相同的工藝做出來的效果也不同。
04設(shè)備緊湊性
一些設(shè)備在滿足相同性能情況下,由于加工的精密度方面的差距,造成設(shè)備比較龐大,占地面積較大,使得實驗室寶貴的空間被占用嚴重。而NANO-MASTER設(shè)備相對而言具有更緊湊的設(shè)計,占地面積也較小。
05設(shè)備穩(wěn)定性
進口設(shè)備的維護率較低,可以保證設(shè)備較長時間的穩(wěn)定運行,而一些設(shè)備的故障率高,不利于設(shè)備的穩(wěn)定使用,經(jīng)常因為故障影響實驗的正常進行,影響科研進度。
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