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粒子束成像設(shè)備的分辨能力測(cè)試原理和測(cè)試方式

來(lái)源:納克微束(北京)有限公司 更新時(shí)間:2024-08-23 16:16:26 閱讀量:184
導(dǎo)讀:粒子束成像設(shè)備的分辨能力測(cè)試原理和測(cè)試方式

1

測(cè)試原理

粒子束成像設(shè)備如SEM、FIB等,成像介質(zhì)為被聚焦后的高能粒子束(電子束或離子束)。以掃描電鏡(SEM)為例,通過(guò)光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)布置的偏轉(zhuǎn)器控制這些被聚焦的高能電子束在樣品表面做陣列掃描動(dòng)作,電子束與樣品相互作用激發(fā)出信號(hào)電子,信號(hào)電子經(jīng)過(guò)探測(cè)器收集處理后,即可得到由電子束激發(fā)的顯微圖像。

圖1:偏轉(zhuǎn)器的結(jié)構(gòu)示意(左);電鏡圖像(右)


基于以上原理,一臺(tái)粒子束設(shè)備在進(jìn)行顯微成像時(shí),其分辨能力與下落至樣品表面的粒子束的束斑尺寸相關(guān),束斑的尺寸越小,掃描過(guò)程中每個(gè)像元之間的有效間距即可越小,設(shè)備的分辨本領(lǐng)越高。當(dāng)相鄰的兩個(gè)等強(qiáng)度束斑其中一個(gè)束斑的中心恰好與另一個(gè)束斑的邊界重合時(shí),設(shè)備達(dá)到分辨能力極限(圖2)。


圖2:分辨能力極限示意圖


不考慮粒子衍射效應(yīng)時(shí),經(jīng)聚焦后的粒子束截面可視為圓形(高斯斑),其束流強(qiáng)度沿中心向邊緣呈高斯分布(圖3)。以掃描電鏡為例,在光學(xué)設(shè)計(jì)和實(shí)驗(yàn)階段,通常使用直接電子束跟蹤和波光計(jì)算(direct ray-tracing and wave-optical calculations)方法,來(lái)獲得聚焦電子束的束斑輪廓。該過(guò)程是將電子束的束流分布采用波像差近似算法來(lái)計(jì)算圖像平面上的點(diǎn)展寬函數(shù)PSF(Point Spread Function),基于PSF即可估算出包含總探針電流的某一部分(如50%或80%)的圓的直徑,從而得到設(shè)備的分辨能力水平。


圖3:高斯斑的截面形狀和強(qiáng)度分布示意圖


但是在設(shè)備出廠后,由于粒子束斑尺寸在納米量級(jí),無(wú)法直接測(cè)量,因此行業(yè)通常使用基于成像的測(cè)試方法,測(cè)試粒子束設(shè)備的分辨能力。


銳利物體邊界的邊界變化率法是行業(yè)目前達(dá)到共識(shí)的測(cè)試粒子束斑尺寸的方法,即使用粒子束成像設(shè)備對(duì)銳利物體(通常是納米級(jí)金顆粒)進(jìn)行成像,沿圖像中銳利物體的邊緣繪制亮度垂直邊緣方向的變化曲線,并選取曲線上明暗變化位置一定比例對(duì)應(yīng)的物理距離,來(lái)表示設(shè)備的分辨率(圖4)。為了保證測(cè)試準(zhǔn)確性,可以在計(jì)算機(jī)幫助下取數(shù)百、數(shù)千個(gè)銳利邊界的亮度變化率曲線求取均值,以獲知設(shè)備的整體分辨能力。


圖4:金顆粒邊界測(cè)量線(上圖紅線);測(cè)量線上的亮度變化(下左);取多條測(cè)量線后得到的設(shè)備分辨率示意(下右)


邊界變化率曲線上亮度25%-75%位置之間的物理距離d,可以近似認(rèn)為是粒子探針束流50%時(shí)所對(duì)應(yīng)的粒子束斑直徑,在粒子束成像設(shè)備行業(yè)通常用此距離d來(lái)最終標(biāo)識(shí)設(shè)備的分辨能力。

圖5:邊界變化曲線與高斯斑直徑對(duì)應(yīng)示意圖


2

測(cè)試方式


「 樣品的選擇 」

金顆粒通常采用CVD或者PVD等沉積生長(zhǎng)的方法獲得,由于顆粒形核長(zhǎng)大的過(guò)程可以人工調(diào)控,因而最終得到的金顆粒直徑的大小可以被人工控制,所以視不同用途,金顆粒的規(guī)格也不同。以Ted Pella品牌分辨率測(cè)試金顆粒為例,用于SEM分辨率測(cè)試的標(biāo)準(zhǔn)金顆粒有五種規(guī)格,其中顆粒尺寸較小的高分辨、超高分辨金顆粒(如617-2/617-3)通常用于測(cè)試場(chǎng)發(fā)射電鏡的分辨能力;顆粒尺寸較大的金顆粒(如617/623)通常用于測(cè)試鎢燈絲或小型化電鏡的分辨能力,詳細(xì)的顆粒尺寸和適用設(shè)備見(jiàn)圖6。測(cè)試時(shí),不合適的金顆粒選擇無(wú)法準(zhǔn)確反映一臺(tái)電鏡的分辨能力。


圖6:Ted Pella品牌金顆粒規(guī)格及適用機(jī)型



「 SEM光學(xué)參數(shù)的設(shè)置 」

分辨率的測(cè)試旨在測(cè)試設(shè)備在不同落點(diǎn)電壓下的各個(gè)探測(cè)器的極限分辨能力,因此,與電子光學(xué)相關(guān)的成像參數(shù)設(shè)置需要注意以下內(nèi)容:

(1)視場(chǎng)校準(zhǔn):保證放大倍數(shù)、視場(chǎng)尺寸的準(zhǔn)確;

(2)目標(biāo)電壓:這里特指落點(diǎn)電壓,即電子束作用在樣品上的真實(shí)撞擊電壓;

(3)探測(cè)器:不同探測(cè)器收取信號(hào)的能力不同,因此獲得圖像的極限分辨能力不同,因此都要測(cè)試,通常鏡筒內(nèi)探測(cè)器>ET>BSE;

(4)光闌/束斑:通常在每個(gè)電壓下使用可以正常獲得圖像的最小光闌(以獲得極限分辨能力);

(5)工作距離:通常在每個(gè)電壓下使用可以正常獲得圖像的最小工作距離(以獲得極限分辨能力)。



「 SEM圖像采集條件 」

(1)合理的測(cè)試視野/放大倍數(shù)

測(cè)試時(shí),所選用的測(cè)試視野(放大倍數(shù))需要根據(jù)設(shè)備的分辨能力做出調(diào)整,一般放大倍數(shù)取每個(gè)像素的pixel size恰好與真實(shí)束斑尺寸接近即可。比如:對(duì)于真實(shí)分辨能力約1.5nm的設(shè)備,調(diào)整放大倍數(shù)使屏幕上每個(gè)像素對(duì)應(yīng)樣品上的真實(shí)物理尺寸為1.5nm,即在采集1024*1024像素?cái)?shù)的圖像進(jìn)行測(cè)試的前提下,選擇不大于1024*1.5nm≈1.5um的視野進(jìn)行測(cè)試即可。


表1:分辨率測(cè)試的FOV及放大倍數(shù)估算表


(2)合理的亮度、對(duì)比度

采集金顆粒圖像時(shí),亮度和對(duì)比度的選擇也需要合理,也就是通常所講的不要丟失信息。在不丟失信息的前提下,圖像亮度對(duì)比度稍微偏高或偏低,只要邊緣變化曲線的高線和低線均未超出電子探測(cè)器采集能力的上限或者下限,曲線雖然在強(qiáng)度方向(Y方向)出現(xiàn)的位置和差值有所變化,但距離方向(X方向)及變化趨勢(shì)均不改變,因此使用25%-75%變化率對(duì)測(cè)量出來(lái)的分辨率數(shù)值d基本沒(méi)有影響(圖7)。然而,當(dāng)使用過(guò)大的亮度、對(duì)比度設(shè)定后,當(dāng)邊緣變化曲線的高線和低線至少一邊超出電子探測(cè)器采集能力的上限或者下限,再使用25%-75%變化率對(duì)測(cè)量出來(lái)的分辨率數(shù)值d就不再準(zhǔn)確,這時(shí)測(cè)出的分辨率數(shù)值無(wú)效(圖8)。


圖7:合理的亮度對(duì)比度及邊界變化率的曲線


圖8:不合理的亮度對(duì)比度及邊界變化率的曲線


3

總結(jié)


基于上述圖像學(xué)進(jìn)行的分辨率測(cè)試,是反映粒子束設(shè)備整體光學(xué)、機(jī)械、電路、真空等全面綜合性能的關(guān)鍵手段。該測(cè)試在設(shè)備出廠交付時(shí)用于驗(yàn)證設(shè)備的性能指標(biāo),在設(shè)備運(yùn)行期間不定期運(yùn)行該測(cè)試以關(guān)注分辨率指標(biāo),可以快速幫助使用人員和廠商工程師快速發(fā)現(xiàn)設(shè)備風(fēng)險(xiǎn),從而及時(shí)制定維護(hù)、維修方案,以延長(zhǎng)設(shè)備的穩(wěn)定服役時(shí)間。


鋼研納克是專(zhuān)業(yè)的儀器設(shè)備制造商,同時(shí)提供完善可靠的第三方材料檢測(cè)服務(wù)、儀器設(shè)備校準(zhǔn)服務(wù),力求在儀器設(shè)備產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)、生產(chǎn)、交付、運(yùn)行全流程階段遵循行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)和規(guī)范,采用統(tǒng)一的品質(zhì)監(jiān)控手段,保證所交付產(chǎn)品品質(zhì)的穩(wěn)定可靠。


參考文獻(xiàn)

[1] J Kolo?ová, T Hrn?í?, J Jiru?e, et al. On the calculation of SEM and FIB beam profiles[J]. Microscopy and Microanalysis, 2015, 21(4): 206-211.

[2]  JJF 1916-2021, 掃描電子顯微鏡校準(zhǔn)規(guī)范[S].


本技術(shù)文章中掃描電鏡圖像由鋼研納克FE-2050T產(chǎn)品拍攝。



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