腔衰蕩光譜(CRDS)技術(shù)通過(guò)測(cè)量光在高反射腔中的衰減時(shí)間,實(shí)現(xiàn)無(wú)背景干擾的痕量氣體檢測(cè),是替代傳統(tǒng)GC-MS、TDLAS的高精度方案??崛R光電CL203 CRDS分析儀針對(duì)多場(chǎng)景需求優(yōu)化,核心參數(shù)具備行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力:
CL203通過(guò)模塊化氣體擴(kuò)展(最多8種)、自動(dòng)校準(zhǔn)系統(tǒng)減少人工干預(yù),覆蓋從實(shí)驗(yàn)室研究到工業(yè)量產(chǎn)的全鏈路需求,是痕量氣體精準(zhǔn)檢測(cè)的核心工具。
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