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賽默飛iCAP RQ 電感耦合等離子體質(zhì)譜儀特點(diǎn)

來(lái)源:賽默飛色譜與質(zhì)譜中國(guó) 更新時(shí)間:2026-04-07 16:15:02 閱讀量:16
導(dǎo)讀:賽默飛iCAP RQ電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS)是針對(duì)痕量元素精準(zhǔn)分析的高性能設(shè)備,憑借核心技術(shù)突破實(shí)現(xiàn)了高靈敏度、低干擾與寬動(dòng)態(tài)范圍的統(tǒng)一,廣泛服務(wù)于環(huán)境、食品、生物醫(yī)藥等行業(yè)的實(shí)驗(yàn)室檢測(cè)需求。以下從技術(shù)特點(diǎn)、性能參數(shù)及應(yīng)用場(chǎng)景展開(kāi)專業(yè)分享。

賽默飛iCAP RQ電感耦合等離子體質(zhì)譜儀特點(diǎn)

賽默飛iCAP RQ電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS)是針對(duì)痕量元素精準(zhǔn)分析的高性能設(shè)備,憑借核心技術(shù)突破實(shí)現(xiàn)了高靈敏度、低干擾與寬動(dòng)態(tài)范圍的統(tǒng)一,廣泛服務(wù)于環(huán)境、食品、生物醫(yī)藥等行業(yè)的實(shí)驗(yàn)室檢測(cè)需求。以下從技術(shù)特點(diǎn)、性能參數(shù)及應(yīng)用場(chǎng)景展開(kāi)專業(yè)分享。

一、核心技術(shù)特點(diǎn)(帶量化數(shù)據(jù))

  1. Dynamic Reaction Cell(DRC)碰撞反應(yīng)池

    • He碰撞模式精準(zhǔn)抑制多原子干擾:對(duì)ArO?(m/z 56)干擾抑制率≥99.9%,As??(受ArCl?干擾)的背景等效濃度(BEC)低至0.02 ng/L,較常規(guī)ICP-MS提升10倍以上;
    • 可切換NH?反應(yīng)模式,針對(duì)Se、Cr等元素實(shí)現(xiàn)更優(yōu)干擾去除(如Se??檢出限降至0.05 ng/L)。
  2. 雙模式檢測(cè)器設(shè)計(jì)

    • 結(jié)合脈沖計(jì)數(shù)(低濃度)與模擬檢測(cè)(高濃度),動(dòng)態(tài)范圍達(dá)1012,覆蓋從痕量(ng/L級(jí))到常量(mg/L級(jí))的全濃度分析;
    • 1 ng/mL濃度下,Li?靈敏度≥1×10? cps/ng/mL,Y??≥5×10? cps/ng/mL,Ce1??≥3×10? cps/ng/mL。
  3. 優(yōu)化等離子體系統(tǒng)

    • 固態(tài)RF發(fā)生器(27.12 MHz)功率可調(diào)1000-1600 W,適配復(fù)雜基體樣品(如高鹽廢水);
    • 同心霧化器霧化效率≥5%(常規(guī)設(shè)備約2-3%),可拆卸石英炬管便于日常維護(hù)。
  4. 自動(dòng)化進(jìn)樣與合規(guī)數(shù)據(jù)管理

    • ASX-560自動(dòng)進(jìn)樣器:進(jìn)樣體積10-5000 μL,10次重復(fù)進(jìn)樣精度≤0.5% RSD;
    • Qtegra軟件支持GLP/GMP合規(guī)性,實(shí)現(xiàn)方法開(kāi)發(fā)、數(shù)據(jù)采集與報(bào)告自動(dòng)化。

二、關(guān)鍵性能參數(shù)(量化列表)

參數(shù) 具體數(shù)值
靈敏度(1 ng/mL) Li?≥1×10? cps;Y??≥5×10? cps;Ce1??≥3×10? cps
檢出限(ng/L) Li?≤0.01;Cd111≤0.005;Pb2??≤0.003
動(dòng)態(tài)范圍 1012(脈沖+模擬雙模式)
短期穩(wěn)定性(10 min) ≤1% RSD
長(zhǎng)期穩(wěn)定性(4 h) ≤2% RSD
干擾抑制(He模式) ArO?/Fe?≤1×10??;ArCl?/As?≤5×10??

三、典型應(yīng)用場(chǎng)景

  1. 環(huán)境監(jiān)測(cè):地表水/地下水痕量重金屬(As、Hg、Pb)分析,檢出限遠(yuǎn)低于GB/T 14848-2017地下水質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)(如As≤10 μg/L);
  2. 食品檢測(cè):大米、蔬菜中Cd殘留分析,檢出限0.005 ng/L符合GB 2762-2022中Cd≤0.2 mg/kg的限量要求;
  3. 生物醫(yī)藥:注射劑、原料藥痕量金屬雜質(zhì)檢測(cè),滿足USP<233>與EP 2.4.14標(biāo)準(zhǔn);
  4. 地質(zhì)勘探:礦石稀土元素(REE)定量,寬動(dòng)態(tài)范圍覆蓋從痕量(ng/g)到常量(%級(jí))的REE分析;
  5. 半導(dǎo)體質(zhì)控:晶圓表面金屬污染檢測(cè),檢出限達(dá)0.1 ng/cm2級(jí)別,適配半導(dǎo)體行業(yè)嚴(yán)苛要求。

賽默飛iCAP RQ ICP-MS通過(guò)技術(shù)優(yōu)化平衡了高靈敏度與低干擾,其寬動(dòng)態(tài)范圍與自動(dòng)化設(shè)計(jì)適配多行業(yè)高通量檢測(cè)需求,是實(shí)驗(yàn)室實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)痕量元素分析的可靠工具。

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