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此設(shè)備是為高等院校,科研院所及工礦企業(yè)對(duì)金屬、非金屬及其它化合物材料在真空或者氣氛狀態(tài)下進(jìn)行燒結(jié)、融化、分析而研制的專(zhuān)用設(shè)備,
它采用PLC控制,觸摸屏操作,您只需通過(guò)輕輕點(diǎn)擊觸摸屏即可完成所有的參數(shù)設(shè)定,也可滿(mǎn)足各類(lèi)CVD工藝的需求。
1、真空、氣氛燒結(jié)均可。
2、控制穩(wěn)定可靠,操作方便,安全防護(hù)措施完善。
3、采用先進(jìn)的PID自學(xué)習(xí)模糊控制,控溫精度高,保持在±1℃。
4、爐襯采用高純氧化鋁輕質(zhì)纖維材料,保溫效果更好,節(jié)能降耗。
5、具有物聯(lián)網(wǎng)功能(WIFI),可通過(guò)手機(jī)、電腦遠(yuǎn)程對(duì)設(shè)備進(jìn)行監(jiān)控,操作。
6、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)功能,可保存燒結(jié)的重要參數(shù),時(shí)長(zhǎng)達(dá)30天之久(每天開(kāi)機(jī)8小時(shí)),配方功能,可預(yù)存配方20條。
7、聯(lián)網(wǎng)功能,通過(guò)RJ45接口,采用TCP/IP協(xié)議,可以讓系統(tǒng)與上位機(jī)相連(上位機(jī)需安裝相應(yīng)軟件)。
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