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2025-01-10 17:03:23接觸式無(wú)損定量成像儀: 接觸式無(wú)損定量成像儀是一種高精度檢測(cè)儀器，通過(guò)非破壞性方式獲取物體內(nèi)部結(jié)構(gòu)及缺陷信息。它采用先進(jìn)的傳感技術(shù)和數(shù)據(jù)處理算法，能在接觸被測(cè)物體的同時(shí)，實(shí)現(xiàn)定量測(cè)量與成像，確保結(jié)果的準(zhǔn)確性和可靠性。該儀器廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、航空航天、汽車(chē)制造等領(lǐng)域，用于檢測(cè)材料內(nèi)部的裂紋、夾雜物、孔隙等缺陷，為質(zhì)量控制和故障分析提供有力支持。其操作簡(jiǎn)便，成像清晰，是科研和生產(chǎn)中不可或缺的檢測(cè)工具。

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接觸式無(wú)損定量成像儀問(wèn)答

2023-06-26 14:52:50無(wú)損無(wú)接觸定量評(píng)價(jià)！GaN晶體質(zhì)量評(píng)估新思路——ODPL法！: 隨著疫情三年的結(jié)束，大家又開(kāi)始馬不停蹄出差、旅游、返鄉(xiāng)，生活的壓力讓人喘不過(guò)氣。更別提出行的時(shí)候，還需要背一個(gè)很沉的電腦，以及與它適配的、同樣很沉的、形狀不規(guī)律的、看著就很糟心的電源適配器！有沒(méi)有一種東西，能夠讓大家的出行變得更加輕松（物理上）？那必須是現(xiàn)在越來(lái)越流行的氮化鎵（GaN）充電器了！一個(gè)氮化鎵充電器幾乎可以滿足所有出行充電的需求，并且占地空間小，簡(jiǎn)直是出行神器！圖1 氮化鎵（GaN）充電器氮化鎵是一種無(wú)機(jī)物，化學(xué)式GaN，是氮和鎵的化合物，一種直接能隙（direct bandgap）的半導(dǎo)體材料。GaN材料具有寬禁帶、高臨界電場(chǎng)強(qiáng)度和高電子飽和速度等特點(diǎn)，其器件耐高溫、耐高壓、高頻和低損耗，大大提升電力器件集成度，簡(jiǎn)化了電路設(shè)計(jì)和散熱支持，具有重要的價(jià)值和廣泛的應(yīng)用，是現(xiàn)在最火熱的第三代半導(dǎo)體材料，沒(méi)有之一。GaN的應(yīng)用不止在流行的充電器上，早在2014年日本科學(xué)家天野浩就憑借基于GaN材料的藍(lán)光LED獲得了諾貝爾獎(jiǎng)。不過(guò)GaN就沒(méi)有缺點(diǎn)了嗎？或者說(shuō)GaN沒(méi)有改善的地方了嗎？并不是， GaN技術(shù)的難點(diǎn)在于晶圓制備工藝。由于制備GaN的單晶材料無(wú)法從自然界中直接獲取，所以GaN的主要制備方法是在藍(lán)寶石、碳化硅、硅等異質(zhì)襯底上進(jìn)行外延。而現(xiàn)在由異質(zhì)外延生長(zhǎng)的GaN普遍存在大量缺陷的問(wèn)題。缺陷的存在勢(shì)必會(huì)影響到晶體的質(zhì)量，從而影響到材料和器件的電學(xué)性能，最終影響到未來(lái)半導(dǎo)體科技的快速發(fā)展。因此，降低GaN晶體里面的缺陷量，提高晶體質(zhì)量，是當(dāng)前第三代半導(dǎo)體領(lǐng)域研究很重要的一個(gè)課題。GaN晶體質(zhì)量/缺陷評(píng)估的方法GaN晶體里面的雜質(zhì)、缺陷是非常錯(cuò)綜復(fù)雜的，無(wú)法單純通過(guò)某一項(xiàng)缺陷濃度或者雜質(zhì)含量來(lái)定量描述GaN晶體是否是高質(zhì)量，因此現(xiàn)在評(píng)價(jià)GaN晶體質(zhì)量的手段比較有限。根據(jù)現(xiàn)有的報(bào)道，大致有以下幾種：多光子激發(fā)光致發(fā)光法（Multiphoton-excitation photoluminescence method，簡(jiǎn)稱MPPL）、蝕坑觀察法（Etch pit method）以及二次離子質(zhì)譜（Secondary-ion mass spectrometry，簡(jiǎn)稱SIMS)。MPPL法多光子激發(fā)光致發(fā)光法采用長(zhǎng)波長(zhǎng)激發(fā)，遠(yuǎn)大于帶邊熒光波長(zhǎng)。激發(fā)過(guò)程需要同時(shí)吸收二個(gè)或者多個(gè)光子。通過(guò)吸收多個(gè)脈沖光子，在導(dǎo)帶和價(jià)帶形成電子空穴對(duì)，隨后非輻射馳豫到導(dǎo)帶底和價(jià)帶頂,最后產(chǎn)生帶邊發(fā)光和缺陷發(fā)光。通過(guò)濾波片獲得帶邊和缺陷發(fā)光光譜和光強(qiáng)，改變?nèi)肷涔獍叩奈恢?，從而得到樣品的熒光信?hào)三維分布，即三維成像。多光子熒光三維成像技術(shù)可以識(shí)別和區(qū)分不同類型的位錯(cuò)，但是無(wú)法定量評(píng)估GaN的晶體質(zhì)量，而且多光子激發(fā)的系統(tǒng)造價(jià)高。圖2 (a) Optical microscope image of etch pits. (b) 42 × 42 μm2 2D MPPL image taken at a depth of 22 μm. (c) 42 × 42 × 42 μm3 3D MPPL image, shown with contrast inverted參考文獻(xiàn)：Identification of Burgers vectors of threading dislocations in free-standing GaN substrates via multiphoton-excitation photoluminescence mapping' by Mayuko Tsukakoshi et al; Applied Physics Express, Volume 14, Number 5 (2021)蝕坑觀察法蝕坑觀察法通過(guò)適當(dāng)?shù)那治g可以看到位錯(cuò)的表面露頭，產(chǎn)生比較深的腐蝕坑，借助顯微鏡可以觀察晶體中的位錯(cuò)多少及其分布。該方法只適合于位錯(cuò)密度低的晶體，如果位錯(cuò)密度高，蝕坑互相重疊，就很難將它們區(qū)分。并且該方法是對(duì)晶體有損傷的，做不到無(wú)損無(wú)接觸。圖3 蝕坑觀察法SIMS技術(shù)SIMS是利用質(zhì)譜法分辨一次離子入射到測(cè)試樣品表面濺射生成的二次離子而得到材料表面元素含量及分布的一種方法。SIMS可以進(jìn)行包括氫在內(nèi)的全元素分析，并分辨出同位素、化合物組分和部分分子結(jié)構(gòu)的信息。二次離子質(zhì)譜儀具有ppm量級(jí)的靈敏度，最高甚至達(dá)到ppb的量級(jí)，還具有進(jìn)行微區(qū)成分成像和深度剖析的功能。但是SIMS對(duì)晶體有損傷，無(wú)法做到無(wú)損。圖4 SIMS技術(shù)以上三種技術(shù)均是評(píng)估GaN晶體缺陷的方法，但是每一種都有其缺憾的地方，它們無(wú)法做到定量的去評(píng)價(jià)GaN晶體的質(zhì)量，而且具有破壞性。為了更好地定量評(píng)估GaN晶體質(zhì)量，濱松公司和日本Tohoku University的Kazunobu Kojima教授以及Shigefusa Chichibu教授從2016年開(kāi)始合作研發(fā)了一套基于積分球的全向光致發(fā)光系統(tǒng)（Omnidirectional Photoluminescence，以下簡(jiǎn)稱ODPL），該系統(tǒng)是第一個(gè)無(wú)損無(wú)接觸定量去評(píng)價(jià)GaN晶體質(zhì)量的方法/系統(tǒng)。ODPL系統(tǒng)ODPL系統(tǒng)是首個(gè)無(wú)接觸無(wú)損評(píng)價(jià)半導(dǎo)體材料晶體質(zhì)量的方法，通過(guò)積分球法測(cè)量半導(dǎo)體材料、鈣鈦礦材料的內(nèi)量子效率。該產(chǎn)品可以直接測(cè)量材料 IQE，具有制冷型背照式 CCD 高靈敏度以及高信噪比。圖5 ODPL測(cè)量方法示意圖傳統(tǒng)光致發(fā)光的量子效率測(cè)量指的是晶體的PLQY，即光致發(fā)光量子效率，其定義為：PLQY = 樣品發(fā)射的光子數(shù)/樣品吸收的光子數(shù)圖6 GaN樣品在積分球下的發(fā)射光譜PLQY是表征晶體發(fā)光效率最常見(jiàn)的參數(shù)之一，對(duì)于絕大多數(shù)的發(fā)光材料，PLQY都是黃金標(biāo)準(zhǔn)。但是對(duì)于GaN晶體，PLQY的表征顯得不足。上圖可見(jiàn)，GaN的光致發(fā)射光譜呈雙峰形狀，這是由于GaN晶體中的缺陷等，會(huì)將GaN本身發(fā)射的PL再次吸收然后發(fā)射（光子回收Photon Recycling現(xiàn)象）。圖7 ( a ) PL and ODPL spectra of the HVPE / AT - GaN crystal and ( b ) detectable light - travelling passes considered in the simulation of light extraction :(1) direct escaping from the surface :( ii ) scattered at the bottom and escaping from the surface : and ( ii ) direct eseaping from the edge .( c ) Refractive index and absorption spectra of HVPE / AT - GaN .因?yàn)榇嬖赑hoton Recycling的現(xiàn)象，GaN的PLQY不足以表征其發(fā)光轉(zhuǎn)化效率，而真正可以表征GaN晶體發(fā)光轉(zhuǎn)化效率的定義是其真正的內(nèi)量子效率：IQE = 樣品產(chǎn)生的光子數(shù)/樣品吸收的光子數(shù)圖8 GaN樣品的標(biāo)準(zhǔn)發(fā)射光譜IQE是GaN晶體的PLQY考慮LEE和光子回收現(xiàn)象以后的參數(shù)，更能直觀、定量反映GaN晶體的質(zhì)量。圖9 高IQE和低IQE晶體的對(duì)比高IQE的GaN晶體通常表現(xiàn)為：高載流子濃度、低穿透位錯(cuò)密度、低雜質(zhì)濃度、低點(diǎn)缺陷濃度、高激發(fā)功率密度。圖10 不同穿透位錯(cuò)密度晶體的IQE結(jié)果對(duì)比免費(fèi)樣機(jī)預(yù)約ODPL現(xiàn)在ODPL樣機(jī)開(kāi)放免費(fèi)預(yù)約試用活動(dòng)，有意向的客戶請(qǐng)?jiān)谠u(píng)論區(qū)留言“樣機(jī)試用”小編看到之后會(huì)第一時(shí)間與您聯(lián)系，樣機(jī)數(shù)量有限，先到先得喲~圖11 ODPL樣機(jī)展示以上有關(guān)新品的信息已經(jīng)全部介紹完畢了，如有任何疑問(wèn)，歡迎在評(píng)論區(qū)留言喲。

2025-04-29 16:20:02凝膠成像儀有什么特點(diǎn): 三波長(zhǎng)一體化新一代凝膠成像分析系統(tǒng)，專為科研級(jí)應(yīng)用設(shè)計(jì)，配備了高分辨率的2592×1944像素?cái)z像頭和16bit灰階深度，確保了圖像的高清晰度與細(xì)膩度。其獨(dú)特的三波長(zhǎng)LED光源（藍(lán)光/紫外/白光）支持多種實(shí)驗(yàn)需求，并通過(guò)電動(dòng)控制實(shí)現(xiàn)精確調(diào)整。內(nèi)置雙核I5處理器、8G內(nèi)存及256G固態(tài)硬盤(pán)，配合10寸電容觸摸屏，提供快速響應(yīng)和直觀操作體驗(yàn)。智能軟件具備全面的圖像處理功能，包括1D分析、自動(dòng)識(shí)別泳道和條帶等，適用于凝膠電泳結(jié)果的分析。該系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊且密封良好，防止光泄露，確保了高質(zhì)量成像效果。產(chǎn)品特點(diǎn)：一體式設(shè)計(jì)：內(nèi)置電腦，開(kāi)機(jī)即用，10英寸高清觸摸顯示屏，操作靈敏。多功能光源：陣列透射式光源排布，提供紫外、藍(lán)光和白光三種波長(zhǎng)選擇，滿足不同樣品的需求。高分辨率成像：科研級(jí)工業(yè)相機(jī)，搭配16bit灰階深度，捕捉細(xì)微差異，確保圖像質(zhì)量。自動(dòng)化程度高：從光源到切膠裝置的全自動(dòng)模塊化控制，簡(jiǎn)化工作流程，提高效率。智能圖像處理：內(nèi)置軟件支持豐富的圖像編輯功能和1D分析，方便用戶進(jìn)行數(shù)據(jù)分析。人性化設(shè)計(jì)：配備自動(dòng)保存路徑設(shè)置和多樣的圖片命名方式，便于管理和組織文件。安全防護(hù)：密閉無(wú)光泄露暗箱設(shè)計(jì)，配以開(kāi)門(mén)自動(dòng)保護(hù)系統(tǒng)，保障使用者的安全。

2021-07-05 11:06:46非接觸無(wú)損涂層測(cè)厚儀的技術(shù)優(yōu)勢(shì): 涂層厚度是一個(gè)重要的工藝參數(shù)，在產(chǎn)品質(zhì)量、過(guò)程控制和成本控制中都發(fā)揮著非常重要的作用。目前，許多不同種類的儀器和方法都可以用來(lái)測(cè)量涂層的厚度，但在選取合適的測(cè)量方法時(shí)需要考慮各種因素，比如涂層類型、基體材料、涂層厚度范圍、被測(cè)件的形狀和尺寸等。 AIM Systems 有限責(zé)任公司是一家專注于工業(yè)涂布涂覆無(wú)損檢測(cè)技術(shù)的德國(guó)光電科技公司，集研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售和服務(wù)為一體，擁有非接觸無(wú)損涂層檢測(cè)的技術(shù)和產(chǎn)品。AIM Systems公司生產(chǎn)的CoatPro非接觸無(wú)損涂層測(cè)厚儀采用光熱紅外法工作原理，可以在線或離線對(duì)涂層厚度進(jìn)行無(wú)損非接觸式測(cè)量，測(cè)量時(shí)間短適用范圍廣，可以有效地幫助客戶控制質(zhì)量，節(jié)約成本，為客戶的產(chǎn)線升級(jí)提供可靠的自動(dòng)化檢測(cè)手段，并未客戶優(yōu)化工藝提供重要的數(shù)據(jù)支持。 CoatPro非接觸無(wú)損涂層測(cè)厚儀的技術(shù)優(yōu)勢(shì)如下：非接觸無(wú)損測(cè)量可測(cè)量干膜和濕膜適用于各種材料上的各種涂層測(cè)厚，可在曲面、粗糙表面和各種厚度的基底上測(cè)量適用于工業(yè)生產(chǎn)環(huán)境、測(cè)量精確且穩(wěn)定適用于各種涂裝工藝滿足工業(yè)防爆安全區(qū)要求探測(cè)距離和可探測(cè)角度的容差范圍廣可在線實(shí)時(shí)測(cè)量使用安全，無(wú)輻射和激光危害同類技術(shù)中的zui高精度適用范圍廣：底材材質(zhì)不限(金屬、塑料、橡膠、復(fù)合材料等），涂料種類不限（油漆、粉末涂料、粘膠劑、潤(rùn)滑涂層等）

2025-06-24 15:00:21非接觸陀螺減壓器怎么調(diào): 非接觸陀螺減壓器是一種高精度的機(jī)械設(shè)備，廣泛應(yīng)用于各種需要精確調(diào)節(jié)壓力的領(lǐng)域，如航空航天、精密制造以及自動(dòng)化設(shè)備等。正確的調(diào)整非接觸陀螺減壓器對(duì)于保證設(shè)備的穩(wěn)定性和提高系統(tǒng)的效率至關(guān)重要。本文將詳細(xì)介紹如何調(diào)節(jié)非接觸陀螺減壓器，從而確保其在不同應(yīng)用場(chǎng)景中的佳表現(xiàn)。 1. 非接觸陀螺減壓器的基本構(gòu)造非接觸陀螺減壓器是一種依靠陀螺效應(yīng)來(lái)減少摩擦和壓力波動(dòng)的設(shè)備。它通常由多個(gè)關(guān)鍵組件構(gòu)成，包括陀螺轉(zhuǎn)子、減壓腔、傳感器及調(diào)節(jié)閥等。其核心特點(diǎn)是利用非接觸技術(shù)，確保減壓過(guò)程中的零摩擦運(yùn)行，從而大幅提高了系統(tǒng)的穩(wěn)定性和響應(yīng)速度。 2. 調(diào)節(jié)非接觸陀螺減壓器的步驟調(diào)節(jié)非接觸陀螺減壓器需要根據(jù)實(shí)際的工作需求來(lái)精細(xì)調(diào)整。下面是一般的調(diào)節(jié)流程： 2.1 確認(rèn)工作壓力范圍了解系統(tǒng)所需的工作壓力范圍。通過(guò)查看設(shè)備手冊(cè)或根據(jù)設(shè)備需求設(shè)定一個(gè)理想的壓力范圍。在調(diào)節(jié)過(guò)程中，應(yīng)確保所選壓力值不會(huì)超過(guò)設(shè)備的承受極限。 2.2 檢查減壓器的初始設(shè)定對(duì)減壓器進(jìn)行檢查，確保其初始設(shè)定沒(méi)有異常。檢查各個(gè)連接件是否緊固、減壓腔內(nèi)部是否清潔、傳感器是否正常工作。如果有損壞或污染的部件，應(yīng)及時(shí)更換或清潔。 2.3 調(diào)整閥門(mén)和傳感器根據(jù)需要調(diào)節(jié)減壓器中的閥門(mén)和傳感器。通過(guò)調(diào)節(jié)閥門(mén)的開(kāi)關(guān)程度來(lái)控制氣流的大小，從而調(diào)節(jié)系統(tǒng)的壓力。在調(diào)節(jié)過(guò)程中，可以使用外部壓力計(jì)或內(nèi)部傳感器進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)，確保壓力調(diào)節(jié)在預(yù)定范圍內(nèi)。 2.4 進(jìn)行精細(xì)調(diào)整完成大致的調(diào)節(jié)后，進(jìn)行精細(xì)調(diào)整。這一步通常需要微調(diào)設(shè)備的反饋系統(tǒng)，確保壓力保持穩(wěn)定且符合設(shè)計(jì)要求。非接觸陀螺減壓器能夠提供極高的響應(yīng)精度，但需要在此階段避免過(guò)度調(diào)整，避免出現(xiàn)設(shè)備不穩(wěn)定的現(xiàn)象。 2.5 測(cè)試并驗(yàn)證效果完成調(diào)節(jié)后，進(jìn)行系統(tǒng)測(cè)試，確保非接觸陀螺減壓器能夠在實(shí)際工作條件下穩(wěn)定運(yùn)行。通過(guò)反復(fù)測(cè)試和調(diào)整，驗(yàn)證減壓器是否在整個(gè)工作范圍內(nèi)都能夠保持準(zhǔn)確的減壓效果。 3. 調(diào)節(jié)時(shí)的注意事項(xiàng) 在調(diào)節(jié)非接觸陀螺減壓器時(shí)，必須注意以下幾個(gè)方面：設(shè)備的清潔度：確保設(shè)備無(wú)污染物，避免任何雜質(zhì)影響減壓效果。壓力波動(dòng)監(jiān)控：調(diào)節(jié)時(shí)要隨時(shí)監(jiān)控壓力變化，避免突然的波動(dòng)對(duì)系統(tǒng)造成損害。適應(yīng)性測(cè)試：調(diào)整完畢后，進(jìn)行不同負(fù)載條件下的適應(yīng)性測(cè)試，確保設(shè)備在多種工作環(huán)境下都能穩(wěn)定運(yùn)行。定期維護(hù)：為了確保長(zhǎng)時(shí)間的穩(wěn)定性，非接觸陀螺減壓器需要定期維護(hù)和校準(zhǔn)。 4. 總結(jié) 非接觸陀螺減壓器的調(diào)節(jié)是一個(gè)細(xì)致且精密的過(guò)程，需要根據(jù)實(shí)際使用需求進(jìn)行全面、科學(xué)的調(diào)整。通過(guò)正確的調(diào)節(jié)步驟和嚴(yán)格的測(cè)試，可以確保減壓器在各種工作條件下都能夠保持高效、穩(wěn)定的運(yùn)行。對(duì)于專業(yè)的用戶來(lái)說(shuō)，精確調(diào)整和維護(hù)非接觸陀螺減壓器是確保設(shè)備長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行可靠性的關(guān)鍵。

2022-11-08 10:08:09非接觸式透鏡厚度測(cè)量利器光纖微裂紋檢測(cè)儀（OLI）: 在光學(xué)領(lǐng)域，透鏡是光學(xué)系統(tǒng)中最重要的組成元件，現(xiàn)代的光學(xué)儀器對(duì)透鏡的成像質(zhì)量和光程控制有很高的要求。尤其在透鏡的制造要求上，加工出的透鏡尺寸，其公差必須控制在允許范圍內(nèi)，因此需要在生產(chǎn)線上形成對(duì)透鏡厚度實(shí)時(shí)、自動(dòng)、精準(zhǔn)的檢測(cè)，這對(duì)提高產(chǎn)線的生產(chǎn)效率和控制產(chǎn)品的質(zhì)量具有重要意義。目前，測(cè)量透鏡中心厚度的方法主要分為接觸式測(cè)量和非接觸式測(cè)量。接觸式測(cè)量有很多弊端，如不能準(zhǔn)確找到透鏡的中心點(diǎn)(最高點(diǎn)或最低點(diǎn))，測(cè)量時(shí)需要來(lái)回移動(dòng)透鏡，效率不高，容易劃傷透鏡的玻璃表面。而非接觸測(cè)量一般采用光學(xué)的方法，能有效避免這些測(cè)量缺陷，由東隆科技自研的光纖微裂紋檢測(cè)儀（OLI）不僅可以快速精準(zhǔn)測(cè)試出透鏡的厚度，而且也不會(huì)對(duì)透鏡表面造成劃傷。下面，讓我們學(xué)習(xí)下光纖微裂紋檢測(cè)儀（OLI）是如何高效的測(cè)量手機(jī)鏡頭的折射率和厚度。光纖微裂紋檢測(cè)儀（OLI）1、 OLI測(cè)量透鏡厚度使用光纖微裂紋檢測(cè)儀（OLI）測(cè)量凸透鏡中心厚度，如圖1.所示，準(zhǔn)備一根匹配好測(cè)試長(zhǎng)度的光纖跳線，一端接入設(shè)備DUT口，另外一端垂直對(duì)準(zhǔn)透鏡，讓接頭和透鏡之間預(yù)留一定距離，同時(shí)使用OLI進(jìn)行測(cè)量。圖1. 測(cè)量系統(tǒng)示意圖測(cè)量結(jié)果如圖2.所示，圖中共有3個(gè)峰值，第1個(gè)峰值為FC/APC接頭端面的反射，第2個(gè)峰值為空氣到透鏡第一個(gè)面的反射，第3個(gè)峰值為透鏡第二個(gè)面到空氣的反射。圖2.凸透鏡厚度測(cè)試結(jié)果圖峰值1和2之間的距離為3.876mm，峰值2和3之間的距離為20.52mm，圖2中測(cè)得各峰值間距是在設(shè)備默認(rèn)折射率n1=1.467下測(cè)得，而空氣的折射率n2=1玻璃透鏡的折射率n3=1.6，所以空氣段的實(shí)際長(zhǎng)度為：L空=3.876*n1/n2=5.686mm，透鏡的實(shí)際厚度為L(zhǎng)鏡=20.52*n1/n3=18.814mm。使用游標(biāo)卡尺測(cè)量凸透鏡的厚度為19.02mm，和測(cè)試結(jié)果偏差0.2mm，可能是玻璃透鏡的實(shí)際折射率與計(jì)算所用到的折射率1.6有偏差導(dǎo)致的。2、OLI測(cè)量鏡底折射率和厚度將圖1.測(cè)量系統(tǒng)中的凸透鏡換成手機(jī)攝像頭的玻璃鏡底，使用光纖微裂紋檢測(cè)儀（OLI）對(duì)3種不同厚度的玻璃鏡底進(jìn)行測(cè)量，圖3.為測(cè)試玻璃鏡底實(shí)物圖，用游標(biāo)卡尺測(cè)量三種玻璃鏡底的厚度分別為0.7mm、1.5mm和2.0mm。圖3.玻璃鏡底實(shí)物圖光纖微裂紋檢測(cè)儀（OLI）測(cè)量結(jié)果如圖4.所示，為5次測(cè)量平均后的結(jié)果，從圖中可以看出三種鏡底的測(cè)試厚度分別為1.075mm、2.301mm、3.076mm。圖4.三種鏡底厚度測(cè)試結(jié)果圖三種玻璃鏡底的材質(zhì)一樣其折射率一致，圖4.中設(shè)備測(cè)得玻璃鏡底厚度與游標(biāo)卡尺測(cè)得厚度不一致，因?yàn)槭窃谠O(shè)備默認(rèn)折射率n1=1.467下測(cè)得、實(shí)際玻璃鏡底折射率為n鏡=1.075*1.467/0.7=2.253，將設(shè)備折射率修改為2.253直接得出三款玻璃鏡底的厚度為：0.699mm 、1.498mm、2.003mm，設(shè)備測(cè)得結(jié)果與游標(biāo)卡尺測(cè)量偏差不超過(guò)5um，證明OLI非接觸測(cè)試透鏡厚度十分精準(zhǔn)。3、結(jié)論使用光纖微裂紋檢測(cè)儀（OLI）非接觸測(cè)試各種透鏡的折射率和厚度，其測(cè)量精度在亞微米級(jí)別，相對(duì)于接觸式測(cè)量透鏡厚度，精度提升很大，同時(shí)也避免測(cè)量時(shí)透鏡表面被劃傷。將光纖微裂紋檢測(cè)儀（OLI）非接觸式測(cè)量透鏡厚度的方法應(yīng)用到生產(chǎn)車(chē)間內(nèi)，可形成自動(dòng)化檢測(cè)產(chǎn)線，無(wú)需人為干預(yù)即可準(zhǔn)確甄別出質(zhì)量不合格產(chǎn)品，極大提升生產(chǎn)效率。