- 2025-01-24 09:31:23鍍膜反射鏡
- 鍍膜反射鏡是一種高精度光學元件,通過在反射鏡表面鍍上一層或多層薄膜,以增強或改變其對特定波長光線的反射性能。這種反射鏡廣泛應用于望遠鏡、激光系統(tǒng)、光譜儀等光學儀器中,能夠提高儀器的光學性能和工作效率。鍍膜技術可以精確控制反射鏡的反射率、透射率和相位等參數,滿足不同應用場景的需求。此外,鍍膜還能保護反射鏡基材免受環(huán)境因素的侵蝕,延長其使用壽命。
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鍍膜反射鏡問答
- 2018-12-05 11:24:35前鍍膜反射鏡能反射3d片源嗎?
- 投影機不夠投影距離,打算用反射鏡增加距離,這樣反射的3D效果會有影響嗎?
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- 2021-09-08 15:00:16Lambda鍍膜式高光譜成像系統(tǒng)解析
- Lambda鍍膜式高光譜成像系統(tǒng)解析 寫在前面的還記得之前的科普文章《高光譜在水質檢測中的重要性》嗎?其中說了一項最新、重要的技術,“馬賽克”鍍膜技術?,F(xiàn)在這款產品來了,譜視界近日推出Lambda鍍膜式高光譜成像系統(tǒng),快跟隨主頁妹一起來一探究竟吧! Lambda高光譜成像系統(tǒng)簡介高光譜成像技術是近二十年來發(fā)展起來的基于多窄波段的影像數據技術,其最突出的應用是遙感探測領域,并在越來越多的民用領域有著更大的應用前景。它集中了光學、光電子學、電子學、信息處理、計算機科學等領域的先進技術,是傳統(tǒng)的二維成像技術和光譜技術有機的結合在一起的一門新興技術。 高光譜成像技術具有多波段(可達上百個波段)、波段窄(≤10-2λ)、光譜范圍廣(200-2500nm)和圖譜合一等特點。優(yōu)勢在于采集到的圖像信息量豐富,識別度較高和數據描述模型多。由于物體的反射光譜具有“指紋”效應,不同物不同譜,同物一定同譜的原理來分辨不同的物質信息。物體的光譜特性與其內在的理化學特性緊密相關,由于物質成分和結構的差異就造成物質內部對不同波長光子的選擇性吸收和發(fā)射。完整而連續(xù)的光譜曲線可以更好地反映不同物質間這種內在的微觀差異,這也正是成像光譜技術實現(xiàn)地物精細探測的物理基礎。漸變薄膜式高光譜相機是將不同波段的漸變薄膜鑲鍍在面陣探測器上,可同時、快速獲取光譜和影像信息的無損檢測分析儀器。Lambda高光譜相機利用漸變鍍膜技術,無需傳統(tǒng)的光柵分光模塊,使得在光譜覆蓋范圍內的數十或數百條光譜波段對目標物體連續(xù)成像。在獲得物體空間特征成像的同時,也獲得了被測物體的光譜信息。Lambda主要是針對戶外或較大物體的遠距離成像測試以及一些需要便攜操作的應用。系統(tǒng)結構包括:面陣探測器、驅動電源、運動控制模塊、數據采集模塊等集成于一體,大大減小了系統(tǒng)的體積與重量,外觀簡潔,操作方便。實現(xiàn)了自動曝光、自動匹配掃描速度,同時可以通過攜帶的輔助攝像功能對監(jiān)測范圍進行確定。在數據處理方面實現(xiàn)數據的預處理和數據選擇性的導出、不同的數據校準功能、圖像的等功能。 鍍膜式高光譜成像原理基于線性漸變?yōu)V光片的成像光譜儀的工作原理圖 Lambda鍍膜式高光譜成像系統(tǒng)技術規(guī)格 相機參數儀器型號Lambada-VNLambada-VNSLambada-Nir光譜范圍420~1000nm420~1000nm1100~1660nm光譜分辨率10nm10nm20nm光譜通道數>100>10032/64標配鏡頭焦距(mm)25(其它焦距可選*1)25(其它焦距可選*1)30(其它焦距可選*2)工作距離(mm)150-∞150-∞150-∞視場角19°23°18°探測器2048*2048CMOS2048*2048sCMOS640*512InGaAs FPA像素數(空間維*掃描維)1600*1200(1X)800*600(2X)1600*1200(1X)800*600(2X)640*512像素尺寸5.5*5.5μm6.5*6.5μm15*15μm數字輸出10bit12bit14bit幀數90fps45fps50fps曝光時間范圍28μs-1s10μs-10s10μs-1s內置電腦接口USB3.0+HDMI鏡頭接口C-Mount系統(tǒng)電源DC 16.8V內置微型處理器I7處理器、16G運存、256GSSD內置電池65Wh65Wh65Wh系統(tǒng)功耗45W60W60W*1:16mm,35mm,50mm,其它可咨詢 *2:9mm,15mm,22mm,56mm,其它可咨詢 相機功能●可與標準C接口的成像鏡頭或顯微鏡直接集成,實現(xiàn)光譜影像(Mapping)的快速采集?!褡詣悠毓狻⒆詣訏呙杷俣绕ヅ?、自動采集并保存數據●可實現(xiàn)數據實時校準及模型運算功能(內置水體、植被等超過25個指數模型)●輔助取景攝像頭實現(xiàn)對拍攝區(qū)域的監(jiān)控●內置電池●數據預覽及校正功能:輻射度校正、反射率校正、區(qū)域校正、鏡頭校準、均勻性校準●鏡頭可更換●數據格式完美兼容Envi、SpecSight等數據分析軟件●目標光譜實時匹配搜索功能●內置WiFi支持Android智能手機、ipad、iphone無線遙控●千兆以太網:支持遠距圖像傳輸與遙控操作 Lambd高光譜成像系統(tǒng)實體圖 Lambda數據采集及光譜分析 應用領域介紹 戶外農作物長勢監(jiān)測將Lambda高光譜成像系統(tǒng)放置于三腳架或高架平臺上,用于監(jiān)測農作物的長勢,如農作物的氮含量、葉綠素、生物量等,也可用于監(jiān)測農作物的病害及土壤肥力情況,從而為農業(yè)精細化管理作技術支撐。 不同氮素處理作物的光譜反射率曲線 河流水質狀況實時檢測將Lambda高光譜成像系統(tǒng)放置于水質檢測搭載平臺上,如三腳架、高塔等,可實時檢測水質參數指標,如總磷、總氮、葉綠素a、懸浮物、PH值、化學需氧量、氨氮、溶解氧等10余種水質指標。 Lambda實時監(jiān)測水質參數 塑料分選將Lambda高光譜成像系統(tǒng)搭載于配備有光源的暗箱系統(tǒng),可用于不同塑料種類的分選,如PE、PP、PS、PC、PA、PU、PET、PVC、POM和ABS等。 Lambda用于塑料分選 真?zhèn)?鈔的鑒定利用Lambda高光譜成像系統(tǒng)獲取真假 鈔的高光譜圖像,可通過光譜分析法和紋理分析法鑒定真?zhèn)?鈔。 Lambda高光譜成像系統(tǒng)鑒定真?zhèn)?鈔 室內暗箱樹種鑒定及長勢情況采集不同樹種的葉片放置于室內暗箱系統(tǒng),用Lambda高光譜成像系統(tǒng)獲取其高光譜影像數據,通過光譜分析法和紋理分析法,可區(qū)分不同樹種的葉片和葉片的農學指標分布情況,為航拍區(qū)分不同樹種作理論依據。 Lambda進行樹葉種類區(qū)別及生物量、葉片氮含量監(jiān)測 果蔬分選隨著人們生活水平的提高,消費者越來越關注果蔬的品質安全問題。如造成水果表面出現(xiàn)黑白斑的內部腐爛、水果因運輸等原因造成的碰傷、損傷等,從而嚴重影響消費者的身體健康。因此水果黑白斑、碰傷損傷、水果成熟度等快速有效的識別具有重大意義?;贚ambda高光譜成像系統(tǒng)可用于檢測水果的損傷及糖度等。 Lambda高光譜成像系統(tǒng)快速識別水果損傷區(qū)域 生物醫(yī)學Lambda高光譜成像系統(tǒng)在生物醫(yī)學領域可用于舌苔檢測、智齒檢查、皮膚檢測、黑痣識別等領域。 圖依次為 k0074、k0082 和 k0090 三位患者舌苔含水率分布圖。從圖可知,K0074 含水率較高,口水較多,判斷該患者無精神,是慢性腎病的表現(xiàn)之一。 煙絲種類、雜質判別Lambda高光譜成像系統(tǒng)在煙草行業(yè)可用于煙絲生化成分的檢測、煙絲種類的判別、煙絲雜質的識別等。 Lambda檢測煙絲生化成分、煙絲種類判別、雜質識別等
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- 2021-02-07 10:41:13徠卡電子顯微鏡鍍膜技術簡要介紹
- 電子顯微鏡領域需要對樣本進行鍍膜處理才能改善樣本的成像效果。在樣本上形成一層金屬導電層可YZ電荷聚積、減少熱損傷,并改善SEM對樣品拓撲結構檢測所需的二次電子信號量。在x射線顯微分析中,網格上支持膜,TEM觀察復型樣品中的背底支撐膜,涉及既對電子束透明但同時具備導電效果的精細碳膜。具體需要采用的鍍膜技術取決于分辨率和應用。SEM成像前所需的鍍膜處理導電性很差或不導電的材料樣本(陶瓷、聚合物等)需要碳鍍膜或金屬鍍膜。低溫樣本經過冷凍斷裂后進行金屬鍍膜處理(徠卡EM ACE600冷凍斷裂和徠卡EM VCT500),并在低溫SEM下成像。TEM成像前的鍍膜處理由聚醋酸甲基乙烯脂(formvar)所覆蓋的TEM網格需要進行碳鍍膜處理來獲得導電性能。使用輝光放電處理網格,否則溶液不會粘附并分布在網格上。冷凍斷裂樣本以低角度進行金屬鍍膜處理,然后再對薄膜進行碳鍍膜處理(Leica EM ACE600冷凍斷裂或徠卡EM ACE900),從而生成可在TEM中成像的復型。濺射鍍膜SEM的濺射鍍膜是一種工藝過程,是將導電金屬如金(Au)、金/鈀(Au/Pd)、鉑(Pt)、銀(Ag)、鉻(Cr)或銥(Ir)等超薄導電金屬的涂層鍍膜在不導電或導電性很差的樣本上。濺射鍍膜可防止因靜電場的累積而使樣本電荷聚積。濺射鍍膜還能增加在SEM中從樣本表面檢出的二次電子量,從而提高信噪比。用于SEM的濺射薄膜厚度通常為2-20nm。SEM樣本采用金屬濺射鍍膜的優(yōu)勢:減少顯微鏡電子束損傷增加熱傳導減少樣本電荷累積(提高導電性能)改善二次電子發(fā)射減少電子束穿透深度,提高邊緣分辨率保護對射束敏感的樣本碳蒸鍍碳的熱蒸發(fā)廣泛用于電子顯微鏡的樣本制備。在一個真空系統(tǒng)內,在兩個高電流電極之間安裝一個碳源 – 無論采用線狀還是棒狀形式。當碳源加熱到其蒸發(fā)溫度時就會有一股細小的碳流沉積在樣本上。碳蒸鍍在EM電子顯微鏡中的主要應用是X射線顯微分析和(TEM)網格上的樣本支撐薄膜。電子束蒸鍍金屬和碳都可以被蒸鍍。電子束蒸鍍方法可以得到最精細鍍膜,是一種非常有方向性的鍍膜過程,其鍍膜區(qū)域比較有限。電子匯聚在靶材上,靶材得到加熱并進一步蒸發(fā)。電子束中的帶電粒子被移除。因此,一束電量很低的電子束打到樣品表面。熱量降低,帶電粒子對樣本的影響會減少。少數幾次運行后,電子源須重新加載并清理。一般來說,在必須進行定向鍍膜(投影和復型)或需要精細鍍膜時使用電子束蒸發(fā)鍍膜。低溫技術介紹冷凍斷裂包括一系列技術,這些技術可揭示并復制細胞器及其他膜結構的內部組成,以便在電子顯微鏡下進行檢查。冷凍蝕刻通過升華去除冰層,暴露出原本隱藏的膜表面。冷凍干燥簡稱凍干處理,在高真空條件下(升華)可去除冷凍樣本中的水分。這樣一來就能夠獲得干燥穩(wěn)定的樣本并且可在電子顯微鏡下成像。應用圖1:蚊子的觸須圖2:果蠅復眼圖3:葉螨圖4:蚊子腿圖5:觸須細節(jié)圖6:蚊蟲復眼不同的鍍膜方法不同鍍膜方法的典型應用徠卡EM ACE200徠卡EM ACE200濺射鍍膜儀碳絲蒸發(fā)鍍膜儀濺射與碳絲蒸發(fā)鍍膜儀徠卡EM ACE600徠卡EM ACE600濺射鍍膜儀碳絲蒸發(fā)鍍膜儀濺射與碳絲蒸發(fā)鍍膜儀雙濺射鍍膜儀碳棒蒸發(fā)鍍膜儀電子束蒸發(fā)鍍膜儀濺射與碳棒蒸發(fā)鍍膜儀濺射與電子束蒸發(fā)鍍膜儀雙電子束蒸發(fā)鍍膜儀徠卡EM ACE600冷凍斷裂每一款徠卡EM ACE600都可以配置或升級成為低溫鍍膜儀,分:基礎低溫配置冷凍斷裂低溫配置了解更多:徠卡EM ACE600徠卡EM ACE200
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