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2025-01-10 17:05:18 Nanoscribe超高速雙光子灰度光刻技術(shù)微納3D打印設(shè)備
Quantum X新型超高速無(wú)掩模光刻技術(shù)的核心是Nanoscribedu家ZL的雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL?)。該技術(shù)將灰度光刻的zhuo越性能與雙光子聚合的精確性和靈活性wan美結(jié)合,使其同時(shí)具備高速打印,完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高端復(fù)雜增材制造對(duì)于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝大大縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代,打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型,也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。

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