- 2025-01-20 11:06:35ALD工藝
- ALD工藝，即原子層沉積，是一種將物質(zhì)以單原子層形式逐層沉積在基底表面的方法。該技術(shù)基于表面自限制反應(yīng)，能實(shí)現(xiàn)納米級(jí)精確控制，形成高質(zhì)量、高保形性的薄膜。ALD廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)、催化等領(lǐng)域，用于制備功能薄膜、涂層及納米結(jié)構(gòu)，具有工藝溫度低、重復(fù)性好、均勻性和一致性高等優(yōu)點(diǎn)。
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